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Scopri come la PECVD utilizza il plasma per la deposizione di film sottili di alta qualità a bassa temperatura su substrati sensibili, ideale per semiconduttori ed elettronica.
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PVD vs. PECVD: Confronta la deposizione fisica a linea di vista con il rivestimento chimico a bassa temperatura per geometrie complesse e substrati sensibili al calore.
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Scopri come i diffusori di gas nei sistemi CVD eliminano i problemi di flusso per uno spessore del film, una qualità e una ripetibilità coerenti nei laboratori di semiconduttori e materiali.
Esplora i ruoli chiave del PECVD nella deposizione di SiO₂, Si₃N₄ e dielettrici low-k per l'isolamento, la passivazione e i chip ad alte prestazioni a basse temperature.
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