Il sistema di vuoto nelle apparecchiature PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) è fondamentale per mantenere l'ambiente a bassa pressione necessario per la deposizione di film sottili.Le specifiche principali includono una porta di aspirazione KF40 e una porta di scarico da G1 pollici, con velocità di scarico di 60L/s per l'azoto e 55L/s con una rete di protezione.Il sistema utilizza cuscinetti in ceramica con lubrificazione a grasso, raffreddamento ad aria forzata e funziona a 69.000 giri/min.È dotato di un controllore di pompa molecolare TC75 e di una pompa per vuoto rotativa a palette a due stadi con velocità di scarico di 160L/min.I rapporti di compressione sono 2x10^7 per N2 e 3x10^3 per H2, con una contropressione massima consentita di 800Pa e una durata dei cuscinetti di 20.000 ore.I tempi di avvio e arresto sono rispettivamente di 1,5-2 minuti e 15-25 minuti.Queste specifiche garantiscono un funzionamento efficiente e stabile, fondamentale per la deposizione di film di alta qualità in applicazioni come la produzione di semiconduttori e i rivestimenti ottici.
Punti chiave spiegati:
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Configurazioni delle porte e velocità di scarico
- Attacco di aspirazione KF40 e attacco di scarico da G1 pollici:Le connessioni standardizzate garantiscono la compatibilità con altri componenti del vuoto.
- Velocità di scarico 60L/s per l'azoto (55L/s con rete di protezione) indica un'elevata efficienza di pompaggio, fondamentale per mantenere condizioni di bassa pressione durante la deposizione.
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Dettagli meccanici e operativi
- Cuscinetti in ceramica con lubrificazione a grasso:Migliorano la durata e riducono l'attrito alle alte velocità (69.000 giri/min).
- Raffreddamento ad aria forzata:Impedisce il surriscaldamento durante il funzionamento prolungato.
- Tempi di avvio/arresto:1,5-2 minuti (avvio) e 15-25 minuti (arresto) riflettono la reattività del sistema e i protocolli di sicurezza.
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Metriche di prestazione
- Rapporti di compressione 2x10^7 per l'N2 e 3x10^3 per l'H2 garantiscono una gestione efficace del gas in diverse condizioni di processo.
- Contropressione massima Il limite di 800Pa salvaguarda il sistema da danni da sovrapressione.
- Durata del cuscinetto: 20.000 ore indica un'affidabilità a lungo termine, riducendo i costi di manutenzione.
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Componenti integrati
- Controllore della pompa molecolare TC75:Fornisce un controllo preciso dei livelli di vuoto.
- Pompa rotativa a palette a due stadi (160L/min):Funziona in tandem con la pompa molecolare per un'efficiente evacuazione del gas.
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Contesto del sistema più ampio
- Apparecchiature PECVD, tra cui macchina mpcvd Spesso integra questi sistemi da vuoto con reattori a radiofrequenza (ad esempio, a piastre parallele o induttivi) per una generazione uniforme del plasma.
- Caratteristiche come la pulizia del plasma in situ e gli stadi per wafer a temperatura controllata (20°C-1200°C) completano il ruolo del sistema da vuoto nell'ottenere una deposizione di elevata purezza.
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Considerazioni sulle applicazioni
- Le specifiche del sistema di vuoto hanno un impatto diretto sulla qualità del film in applicazioni quali celle solari, MEMS e rivestimenti barriera.Ad esempio, le basse temperature di formazione del film (<400°C) consentono la deposizione su substrati sensibili al calore.
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Manutenzione e longevità
- Il monitoraggio regolare della durata dei cuscinetti e delle soglie di contropressione garantisce prestazioni durature, in linea con gli standard industriali per gli strumenti di produzione di semiconduttori.
Comprendendo queste specifiche, gli acquirenti possono valutare la compatibilità con i loro requisiti di processo, bilanciando velocità, precisione e durata operativa.L'integrazione di sistemi di vuoto robusti con reattori PECVD avanzati è un esempio di tecnologie che plasmano tranquillamente la microelettronica e la nanotecnologia moderne.
Tabella riassuntiva:
| Specifiche | Dettagli |
|---|---|
| Configurazioni delle porte | Attacco di aspirazione KF40, attacco di scarico da G1 pollici |
| Velocità di scarico | 60L/s (N₂), 55L/s (con rete di protezione) |
| Cuscinetti e raffreddamento | Cuscinetti in ceramica (lubrificazione a grasso), raffreddamento ad aria forzata, 69.000 giri/min. |
| Rapporti di compressione | 2×10⁷ (N₂), 3×10³ (H₂) |
| Massima contropressione | 800Pa |
| Durata del cuscinetto | 20.000 ore |
| Tempi di avvio/arresto | 1,5-2 min (avvio), 15-25 min (arresto) |
| Componenti integrati | Controllore della pompa molecolare TC75, pompa rotativa a palette a due stadi (160L/min) |
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