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Scopri come la deposizione chimica da vapore (CVD) riduce l'impronta di CO2, minimizza gli sprechi e prolunga la vita del prodotto per rivestimenti ecocompatibili.
Esplora le caratteristiche del rivestimento CVD: reazioni chimiche ad alta temperatura per una forte adesione, copertura uniforme di forme complesse e variabili chiave del processo.
Esplora i tipi di forni tubolari a vuoto: design orizzontale, verticale, a zona singola, multizona, statico e rotante per una precisa lavorazione dei materiali.
Scopri come la Deposizione Chimica da Vapore a Bassa Pressione (LPCVD) deposita il polisilicio con silano o triclorosilano a 600-650°C per film uniformi e ad alta purezza nella microelettronica.
Scopri come la deposizione chimica da vapore (CVD) crea film sottili uniformi e di elevata purezza per semiconduttori, rivestimenti e ottica con un controllo preciso.
Scopri come la CVD potenziata (PECVD) utilizza il plasma per la deposizione a bassa temperatura di rivestimenti durevoli su materiali sensibili come semiconduttori e polimeri.
Il MOCVD è un processo critico per la crescita di strati semiconduttori ad alte prestazioni utilizzati in LED, laser, elettronica 5G e celle solari avanzate.
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Scopri perché 800 °C è la soglia essenziale per la sintesi del catalizzatore BCMoMn, garantendo energia uniforme, accoppiamento elettronico e integrità strutturale.
Scopri come i forni tubolari consentono un preciso controllo termico e atmosferico per la ricerca sull'evoluzione strutturale della vermiculite a 1000 °C.
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