Conoscenza Quali sono le proprietà fisiche degli elementi riscaldanti in MoSi2?Prestazioni e durata ad alta temperatura
Avatar dell'autore

Squadra tecnologica · Kintek Furnace

Aggiornato 1 giorno fa

Quali sono le proprietà fisiche degli elementi riscaldanti in MoSi2?Prestazioni e durata ad alta temperatura

Gli elementi riscaldanti in MoSi2 sono ampiamente utilizzati nelle applicazioni industriali ad alta temperatura grazie alle loro eccezionali proprietà fisiche e alla loro durata.Questi elementi presentano densità, resistenza e stabilità termica elevate, che li rendono ideali per gli ambienti che richiedono un'esposizione prolungata a calore estremo.La loro fragilità richiede una manipolazione accurata, ma la loro lunga durata e i requisiti minimi di manutenzione compensano queste sfide.Industrie come quella aerospaziale e automobilistica privilegiano il MoSi2 per la sua capacità di mantenere una resistenza stabile e di sopportare rapidi cicli termici.Le dimensioni personalizzabili e i design versatili ne aumentano ulteriormente l'applicabilità nelle configurazioni di forni specializzati.

Punti chiave spiegati:

  1. Proprietà fisiche:

    • Densità:5,8 g/cm³, che contribuisce all'integrità strutturale alle alte temperature.
    • Resistenza meccanica:
      • Resistenza alla flessione: 350 MPa
      • Resistenza alla compressione: 650 MPa
      • Durezza: 12,0 GPa
    • Proprietà termiche:
      • Allungamento termico:4%
      • Velocità massima di riscaldamento/raffreddamento consigliata:10°C al minuto per evitare rotture.
    • Altre proprietà:
      • Porosità:+/-5%
      • Assorbimento d'acqua:0.6%
      • Tenacità alla frattura:4,5 MPa-m¹/²
  2. Vantaggi operativi:

    • Prestazioni ad alta temperatura:Può operare a 1800-1900°C (superficie dell'elemento) e a temperature di forno fino a 1600-1700°C, superando gli elementi SiC al di sopra dei 1500°C.
    • Resistenza stabile:Garantisce prestazioni di riscaldamento costanti.
    • Ciclo termico rapido:Adatto per applicazioni che richiedono rapidi cambiamenti di temperatura.
    • Longevità:L'estensione della vita utile riduce la frequenza e i costi di sostituzione, soprattutto in settori come quello aerospaziale e automobilistico, dove i tempi di inattività sono costosi.
  3. Manipolazione e manutenzione:

    • Brittleness:Richiede un'attenta manipolazione durante la movimentazione e l'installazione per evitare rotture.
    • Sensibilità alla contaminazione:La corretta essiccazione di materiali come la zirconia colorata/verniciata e la regolare manutenzione del forno sono fondamentali per evitare problemi di contaminazione.
    • Bassa manutenzione:La manutenzione minima riduce i costi operativi e i tempi di inattività.
  4. Design e personalizzazione:

    • Forme standard:Include configurazioni a L, U, W e diritte, oltre a supporti e cinghie combinate.
    • Dimensioni:
      • Diametro della zona di riscaldamento (D1):3-12 mm
      • Diametro della zona di raffreddamento (D2):6-24 mm
      • Lunghezza della zona di riscaldamento (Le):80-1500 mm
      • Lunghezza della zona di raffreddamento (Lu):80-2500 mm
      • Distanza centrale (A): 25-100 mm
    • Dimensioni personalizzate:Disponibile per applicazioni specializzate, aumenta la versatilità come elemento riscaldante per alte temperature. elemento riscaldante per alte temperature .
  5. Applicazioni industriali:

    • Preferito nei settori che richiedono un'esposizione prolungata alle alte temperature, come quello aerospaziale (ad esempio, la produzione di componenti per turbine) e automobilistico (ad esempio, la lavorazione di materiali ad alta resistenza).
    • Ideale per forni in cui la continuità operativa è fondamentale, per ridurre al minimo le costose interruzioni.

Tabella riassuntiva:

Proprietà Valore
Densità 5,8 g/cm³
Resistenza alla flessione 350 MPa
Resistenza alla compressione 650 MPa
Durezza 12,0 GPa
Allungamento termico 4%
Velocità massima di riscaldamento/raffreddamento 10°C al minuto
Porosità +/-5%
Durezza alla frattura 4,5 MPa-m¹/²
Temperatura di funzionamento (elemento) 1800-1900°C
Temperatura di esercizio (forno) 1600-1700°C

Potenziate i vostri processi ad alta temperatura con gli elementi riscaldanti in MoSi2 di KINTEK!

Sfruttando le nostre avanzate attività di ricerca e sviluppo e la produzione interna, KINTEK offre soluzioni di riscaldamento durevoli e ad alte prestazioni per applicazioni aerospaziali, automobilistiche e forni specializzati.I nostri elementi in MoSi2 garantiscono una resistenza stabile, cicli termici rapidi e una durata di vita prolungata, riducendo i tempi di fermo e i costi.

Contattateci oggi stesso per discutere di configurazioni personalizzate o per esplorare la nostra linea di prodotti per le esigenze del vostro laboratorio!

Prodotti che potresti cercare:

Acquista gli elementi riscaldanti MoSi2 ad alte prestazioni

Esplora le finestre di osservazione compatibili con il vuoto per le configurazioni ad alta temperatura

Scoprite i sistemi PECVD di precisione per la lavorazione di materiali avanzati

Prodotti correlati

1700℃ Forno a muffola ad alta temperatura per laboratorio

1700℃ Forno a muffola ad alta temperatura per laboratorio

Forno a muffola KT-17M: forno da laboratorio ad alta precisione a 1700°C con controllo PID, efficienza energetica e dimensioni personalizzabili per applicazioni industriali e di ricerca.

1800℃ Forno a muffola ad alta temperatura per laboratorio

1800℃ Forno a muffola ad alta temperatura per laboratorio

Forni a muffola KINTEK: Riscaldamento di precisione a 1800°C per i laboratori. Efficienti dal punto di vista energetico, personalizzabili e con controllo PID. Ideale per sinterizzazione, ricottura e ricerca.

Disiliciuro di molibdeno MoSi2 Elementi riscaldanti termici per forni elettrici

Disiliciuro di molibdeno MoSi2 Elementi riscaldanti termici per forni elettrici

Elementi riscaldanti in MoSi2 ad alte prestazioni per laboratori, che raggiungono i 1800°C con una resistenza superiore all'ossidazione. Personalizzabili, durevoli e affidabili per applicazioni ad alta temperatura.

Elementi riscaldanti termici in carburo di silicio SiC per forno elettrico

Elementi riscaldanti termici in carburo di silicio SiC per forno elettrico

Elementi riscaldanti SiC ad alte prestazioni per laboratori, che offrono precisione a 600-1600°C, efficienza energetica e lunga durata. Sono disponibili soluzioni personalizzabili.

Flangia per finestra di osservazione CF ad altissimo vuoto con vetro borosilicato ad alta trasparenza

Flangia per finestra di osservazione CF ad altissimo vuoto con vetro borosilicato ad alta trasparenza

Flangia per finestra di osservazione in ultra-alto vuoto CF con vetro borosilicato per applicazioni UHV di precisione. Resistente, trasparente e personalizzabile.

Macchina per la laminazione e il riscaldamento della pressa a caldo sottovuoto

Macchina per la laminazione e il riscaldamento della pressa a caldo sottovuoto

Pressa per laminazione sottovuoto KINTEK: Incollaggio di precisione per applicazioni su wafer, film sottili e LCP. Temperatura massima di 500°C, pressione di 20 tonnellate, certificazione CE. Soluzioni personalizzate disponibili.

Forno ad atmosfera controllata con nastro a rete Forno ad atmosfera inerte con azoto

Forno ad atmosfera controllata con nastro a rete Forno ad atmosfera inerte con azoto

Forno a nastro KINTEK: forno ad atmosfera controllata ad alte prestazioni per sinterizzazione, tempra e trattamento termico. Personalizzabile, efficiente dal punto di vista energetico e con un controllo preciso della temperatura. Richiedete subito un preventivo!

Piastra cieca della flangia a vuoto KF ISO in acciaio inossidabile per sistemi ad alto vuoto

Piastra cieca della flangia a vuoto KF ISO in acciaio inossidabile per sistemi ad alto vuoto

Piastre cieche in acciaio inox KF/ISO per sistemi ad alto vuoto. Resistenti 304/316 SS, guarnizioni in Viton/EPDM. Connessioni KF e ISO. Chiedete subito la consulenza di un esperto!

Soffietti per vuoto ad alte prestazioni per una connessione efficiente e un vuoto stabile nei sistemi

Soffietti per vuoto ad alte prestazioni per una connessione efficiente e un vuoto stabile nei sistemi

Finestra di osservazione per vuoto ultraelevato KF con vetro borosilicato per una visione chiara in ambienti esigenti da 10^-9 Torr. Flangia in acciaio inox 304 resistente.

Macchina del forno a caldo della pressa a vuoto Riscaldata Pressa a vuoto

Macchina del forno a caldo della pressa a vuoto Riscaldata Pressa a vuoto

Forno di pressatura a caldo sottovuoto KINTEK: riscaldamento e pressatura di precisione per una densità superiore del materiale. Personalizzabile fino a 2800°C, ideale per metalli, ceramiche e compositi. Esplora subito le funzioni avanzate!

Forno tubolare al quarzo da laboratorio verticale Forno tubolare

Forno tubolare al quarzo da laboratorio verticale Forno tubolare

Forno tubolare verticale di precisione KINTEK: riscaldamento a 1800℃, controllo PID, personalizzabile per i laboratori. Ideale per CVD, crescita di cristalli e test sui materiali.

Finestra di osservazione a vuoto ultraelevata Flangia in acciaio inox Vetro zaffiro per KF

Finestra di osservazione a vuoto ultraelevata Flangia in acciaio inox Vetro zaffiro per KF

Finestra di osservazione con flangia KF e vetro zaffiro per il vuoto ultraelevato. Acciaio inox 304 resistente, temperatura massima di 350℃. Ideale per i semiconduttori e il settore aerospaziale.

Forno a muffola ad alta temperatura per il laboratorio di deceraggio e pre-sinterizzazione

Forno a muffola ad alta temperatura per il laboratorio di deceraggio e pre-sinterizzazione

Forno di sinterizzazione e pre-sinterizzazione KT-MD per ceramiche - controllo preciso della temperatura, design efficiente dal punto di vista energetico, dimensioni personalizzabili. Aumentate l'efficienza del vostro laboratorio oggi stesso!

Forno tubolare CVD a camera split con macchina CVD a stazione sottovuoto

Forno tubolare CVD a camera split con macchina CVD a stazione sottovuoto

Forno tubolare CVD a camera split con stazione del vuoto - Forno da laboratorio ad alta precisione a 1200°C per la ricerca sui materiali avanzati. Sono disponibili soluzioni personalizzabili.

Macchina elettrica della pianta della fornace di pirolisi del forno rotante Piccolo calcolatore del forno rotante

Macchina elettrica della pianta della fornace di pirolisi del forno rotante Piccolo calcolatore del forno rotante

Forno rotante elettrico KINTEK: Calcinazione, pirolisi ed essiccazione precise a 1100℃. Riscaldamento ecologico e multizona, personalizzabile per esigenze di laboratorio e industriali.

Flangia CF ad altissimo vuoto Finestra di osservazione in vetro zaffiro in acciaio inox

Flangia CF ad altissimo vuoto Finestra di osservazione in vetro zaffiro in acciaio inox

Finestra di visualizzazione in zaffiro CF per sistemi ad altissimo vuoto. Durevole, chiara e precisa per applicazioni di semiconduttori e aerospaziali. Esplora ora le specifiche!

304 316 Valvola di arresto a sfera ad alto vuoto in acciaio inox per sistemi a vuoto

304 316 Valvola di arresto a sfera ad alto vuoto in acciaio inox per sistemi a vuoto

Le valvole a sfera e le valvole di intercettazione in acciaio inox 304/316 di KINTEK garantiscono una tenuta ad alte prestazioni per applicazioni industriali e scientifiche. Esplorate le soluzioni durevoli e resistenti alla corrosione.

Macchina versatile su misura dell'attrezzatura di deposizione di vapore chimica del forno della metropolitana di CVD

Macchina versatile su misura dell'attrezzatura di deposizione di vapore chimica del forno della metropolitana di CVD

Il forno tubolare CVD di KINTEK offre un controllo preciso della temperatura fino a 1600°C, ideale per la deposizione di film sottili. Personalizzabile per esigenze di ricerca e industriali.

Macchina rotante inclinata del forno a tubo PECVD della deposizione chimica potenziata dal plasma

Macchina rotante inclinata del forno a tubo PECVD della deposizione chimica potenziata dal plasma

Forno a tubo PECVD avanzato per la deposizione precisa di film sottili. Riscaldamento uniforme, sorgente di plasma RF, controllo del gas personalizzabile. Ideale per la ricerca sui semiconduttori.

Sistema RF PECVD Deposizione di vapore chimico potenziata al plasma a radiofrequenza

Sistema RF PECVD Deposizione di vapore chimico potenziata al plasma a radiofrequenza

Sistema PECVD RF KINTEK: Deposizione di precisione di film sottili per semiconduttori, ottica e MEMS. Processo automatizzato a bassa temperatura con film di qualità superiore. Sono disponibili soluzioni personalizzate.


Lascia il tuo messaggio