I forni tubolari split a tre zone offrono opzioni di alimentazione flessibili per adattarsi a diversi ambienti industriali e di laboratorio.Le scelte principali sono 220 V CA monofase e 415 V CA trifase, per soddisfare le diverse esigenze di alimentazione e le infrastrutture degli impianti.Questi forni sono progettati per applicazioni ad alta temperatura come reattore di deposizione chimica da vapore con caratteristiche avanzate come il controllo della temperatura multizona e robusti meccanismi di sicurezza.
Punti chiave spiegati:
1. Opzioni di alimentazione
-
220V CA monofase:
- Ideale per operazioni su scala ridotta o per strutture con infrastrutture elettriche limitate.
- Adatto per applicazioni con requisiti di potenza moderati, come laboratori di ricerca o produzione su scala pilota.
-
415 V trifase CA:
- Preferito per le operazioni su scala industriale che richiedono una maggiore potenza in ingresso.
- Garantisce prestazioni stabili per processi ad alta temperatura (fino a 1800°C) e configurazioni multizona.
2. Caratteristiche specifiche dell'applicazione
-
Controllo multizona:
- Consente la regolazione indipendente della temperatura in tre zone, fondamentale per processi come il drogaggio dei semiconduttori o la sintesi di nanomateriali.
- Le opzioni di controllo master/slave ottimizzano l'uniformità e la riproducibilità.
-
Personalizzazione:
- I diametri dei tubi (50-120 mm) e le lunghezze delle zone calde (300-900 mm) possono essere adattati alle esigenze specifiche.
- Elementi riscaldanti (Kanthal, SiC, MoSi2) selezionati in base ai requisiti di temperatura e alla compatibilità dei materiali.
3. Sicurezza e precisione
- La protezione da surriscaldamento e gli allarmi di rottura della termocoppia garantiscono la sicurezza operativa.
- Le funzionalità di programmazione a step consentono una profilazione termica precisa per flussi di lavoro complessi.
4. Rilevanza industriale
- I forni a tubo diviso sono ampiamente utilizzati nella produzione di semiconduttori, nella ceramica e nella scienza dei materiali, dove i gradienti termici controllati sono essenziali.
- L'alimentazione trifase (415 V) supporta applicazioni ad alta intensità energetica come i reattori di deposizione di vapori chimici su larga scala. reattore di deposizione chimica da vapore sistemi di deposizione di vapore chimico.
Selezionando l'alimentatore e la configurazione appropriati, gli utenti possono ottimizzare le prestazioni sia per la ricerca che per l'elaborazione termica su scala industriale.
Tabella riassuntiva:
| Caratteristiche | 220V CA monofase | 415V Trifase CA |
|---|---|---|
| Ideale per | Laboratori su piccola scala, produzione pilota | Esigenze di alta potenza su scala industriale |
| Intervallo di temperatura | Fino a 1800°C | Fino a 1800°C |
| Vantaggi chiave | Minori requisiti infrastrutturali | Prestazioni stabili ad alta potenza |
| Applicazioni tipiche | Ricerca, nanomateriali | Reattori CVD, drogaggio dei semiconduttori |
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