Gli elementi riscaldanti in carburo di silicio sono ampiamente utilizzati nelle applicazioni industriali che richiedono temperature elevate, durata e controllo preciso.Le loro eccezionali proprietà termiche e meccaniche li rendono ideali per forni, fornaci e processi che richiedono una distribuzione costante del calore in ambienti difficili.La loro versatilità in termini di dimensioni, forma e orientamento ne aumenta ulteriormente l'idoneità a soddisfare esigenze industriali specifiche.
Punti chiave spiegati:
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Forni e fornaci industriali ad alta temperatura
- Carburo di silicio elementi riscaldanti per alte temperature sono comunemente utilizzati nei forni industriali e nelle fornaci grazie alla loro capacità di resistere a temperature fino a 1625°C .
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Le applicazioni includono:
- Produzione di ceramica e vetro (ad esempio, sinterizzazione, ricottura).
- Trattamento termico dei metalli (ad esempio, tempra, brasatura).
- Metallurgia delle polveri (ad esempio, sinterizzazione di polveri metalliche).
- La loro bassa porosità (<30%) e elevata radianza (0,85) garantiscono un trasferimento di calore efficiente e una lunga durata in ambienti a riscaldamento ciclico.
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Personalizzabile per progetti di forni speciali
- Disponibili in dimensioni standard (ad esempio, diametro 0,5-3 pollici, lunghezza 1-10 piedi) ma possono essere su misura per le configurazioni uniche dei forni.
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Compatibile con
orientamento verticale/orizzontale
che li rende adattabili a:
- Forni batch (ad esempio, per uso di laboratorio).
- Forni continui (ad esempio, sistemi a nastro).
- La loro elevata resistenza alla flessione (>300 kg) e resistenza alla trazione (>150 kg/cm²) evitare la deformazione sotto stress termico.
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Resistenza agli ambienti difficili
- Ideale per atmosfere corrosive o ossidanti (ad esempio, nella lavorazione chimica o nella produzione di semiconduttori).
- Durezza (>9 MOH'S) e peso specifico (2,6-2,8 g/cm³) garantiscono un'usura minima in condizioni di abrasione.
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Utilizzato in:
- Sistemi di incenerimento (trattamento dei rifiuti).
- Forni per la diffusione dei semiconduttori (lavorazione dei wafer di silicio).
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Efficienza energetica e lunga durata
- La bassa espansione termica riduce lo spreco di energia, fondamentale per le operazioni ad alta intensità di costi come la forgiatura dell'acciaio o cottura di smalti ceramici .
- Superano gli elementi riscaldanti metallici in termini di longevità, riducendo i tempi di inattività per le sostituzioni.
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Applicazioni emergenti
- Produzione additiva (stampa 3D di materiali ad alta temperatura).
- Test di componenti aerospaziali (simulazione di condizioni estreme).
La miscela di robustezza e adattabilità del carburo di silicio è tranquillamente alla base di settori in cui precisione e affidabilità sono irrinunciabili.Le vostre attività potrebbero beneficiare della loro efficienza termica?
Tabella riassuntiva:
Applicazione | Vantaggi principali |
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Produzione di ceramica e vetro | Resiste fino a 1625°C, bassa porosità (<30%), elevata radianza (0,85) |
Trattamento termico del metallo | Elevata resistenza alla piegatura (>300 kg), resistenza alla trazione (>150 kg/cm²) |
Fabbricazione di semiconduttori | Resistente alle atmosfere corrosive/ossidanti, durezza >9 MOH'S |
Produzione additiva | Personalizzabile per layout unici del forno, efficiente dal punto di vista energetico |
Test aerospaziali | Lunga durata, minima espansione termica |
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