Conoscenza Quali sono le dimensioni e le capacità di temperatura dei modelli di forni tubolari orizzontali a zona singola? Esplora le specifiche chiave per il tuo laboratorio
Avatar dell'autore

Squadra tecnologica · Kintek Furnace

Aggiornato 3 giorni fa

Quali sono le dimensioni e le capacità di temperatura dei modelli di forni tubolari orizzontali a zona singola? Esplora le specifiche chiave per il tuo laboratorio


Per i forni tubolari orizzontali a zona singola, i modelli chiave offrono una gamma da capacità standard ad alta temperatura con dimensioni variabili. L'H14HT opera fino a 1400°C con un diametro di 2,5 pollici per una lunghezza di 12 pollici. Per temperature più elevate, l'H18-40HT raggiunge 1760°C (max 1800°C) con le stesse dimensioni, mentre il 3H18-40HT offre prestazioni ad alta temperatura simili ma in un formato più lungo (27 pollici) con una scelta di diametri di 2,5 o 4 pollici.

La scelta di un forno tubolare orizzontale a zona singola non riguarda solo la sua temperatura massima. È una decisione critica basata sulla lunghezza richiesta della zona di riscaldamento uniforme e sulle dimensioni fisiche del campione, bilanciata rispetto alla semplicità intrinseca di un design a zona singola.

Comprendere l'applicazione di base

Un forno tubolare orizzontale è uno strumento fondamentale per l'elaborazione termica, progettato per riscaldare materiali in un'atmosfera controllata all'interno di un tubo in ceramica o quarzo. Il suo valore principale risiede nella capacità di creare un ambiente a temperatura stabile e uniforme.

Lo scopo dell'orientamento orizzontale

Il design orizzontale consente un facile carico e scarico dei campioni. È particolarmente efficace per processi come la ricottura, la calcinazione e la sintesi in cui una temperatura costante deve essere applicata uniformemente lungo la lunghezza del materiale.

Ottenere una zona di riscaldamento uniforme

La "lunghezza riscaldata" di un tubo del forno non è la stessa della sua "zona di riscaldamento uniforme". Un singolo elemento riscaldante avvolge il tubo, ma il calore fuoriesce naturalmente dalle estremità. La zona uniforme è la parte centrale del tubo in cui la temperatura è più stabile e costante.

Caratteristiche operative essenziali

Oltre al calore, questi forni sono definiti dai loro sistemi di controllo e sicurezza. Il controllo preciso della temperatura è gestito da una termocoppia e da un controllore PID, mentre la protezione contro le sovratemperature e gli interblocchi di sicurezza garantiscono un funzionamento sicuro, specialmente durante le esecuzioni non presidiate.

Specifiche dei modelli a zona singola

I modelli a zona singola sono definiti da un elemento riscaldante e un controllore, rendendoli ideali per stabilire un'unica temperatura di processo stabile.

Modello standard ad alta temperatura (1400°C)

  • Modello: H14HT
  • Temperatura massima: 1400°C (2552°F)
  • Dimensioni del tubo: diametro di 2,5 pollici per lunghezza di 12 pollici.
  • Ideale per: Lavori di laboratorio per scopi generali, ricottura e sintesi al di sotto di 1400°C.

Modello ad altissima temperatura (1800°C)

  • Modello: H18-40HT
  • Temperatura massima: 1760°C continuo, 1800°C (3272°F) max.
  • Dimensioni del tubo: diametro di 2,5 pollici per lunghezza di 12 pollici.
  • Ideale per: Lavorazione di ceramiche avanzate, leghe ad alta temperatura e materiali speciali.

Modello ad alta temperatura a lunghezza estesa

  • Modello: 3H18-40HT
  • Temperatura massima: 1760°C continuo.
  • Dimensioni del tubo: diametro di 2,5 o 4 pollici per lunghezza di 27 pollici.
  • Ideale per: Lavorazione di campioni più grandi o più numerosi, o quando è richiesta una zona calda uniforme più lunga per il processo.

Comprendere i compromessi: zona singola rispetto a zona multipla

La scelta di un forno a zona singola è una decisione ingegneristica ponderata. Comprendere i suoi limiti è fondamentale per garantire che soddisfi i requisiti del tuo processo.

Il vantaggio della semplicità

Un forno a zona singola è semplice, affidabile ed economico. Per una vasta gamma di applicazioni che richiedono una sola temperatura stabile, è la soluzione ottimale. Il funzionamento è semplice: si imposta una temperatura e il forno la mantiene.

Il limite intrinseco: perdite alle estremità

Il compromesso principale di un forno a zona singola è l'uniformità della temperatura rispetto alla lunghezza. A causa della fuoriuscita di calore dalle estremità del tubo, la temperatura sarà naturalmente inferiore rispetto al centro. Più lungo è il forno, più lunga è la potenziale zona uniforme, ma i gradienti alle estremità sono inevitabili.

Quando considerare un forno a zone multiple

Se il tuo processo richiede una zona calda uniforme eccezionalmente lunga e precisa, o se devi creare un gradiente di temperatura specifico lungo il campione, è necessario un forno a zone multiple. Questi forni utilizzano elementi riscaldanti multipli controllati in modo indipendente (ad esempio, tre zone) per compensare le perdite alle estremità o per creare intenzionalmente diversi profili di temperatura.

Come selezionare il forno giusto per il tuo processo

Basa la tua decisione sulle esigenze specifiche del tuo compito di elaborazione termica.

  • Se la tua attenzione principale è il lavoro di laboratorio per scopi generali al di sotto di 1400°C: L'H14HT offre le prestazioni necessarie in un ingombro standard e compatto.
  • Se la tua attenzione principale è la sintesi di materiali a temperature molto elevate: L'H18-40HT fornisce la capacità di temperatura richiesta per lavori su scala ridotta.
  • Se la tua attenzione principale è la lavorazione di parti o lotti più grandi in una zona uniforme più lunga: La lunghezza estesa del 3H18-40HT è la scelta giusta.
  • Se la tua attenzione principale è la creazione di un profilo di temperatura specifico o la massimizzazione dell'uniformità su una lunga distanza: Un modello a zona singola non è lo strumento giusto; dovresti indagare sulle opzioni di forni a tre zone.

In definitiva, allineare le capacità del forno con i tuoi obiettivi di processo specifici è la chiave per risultati riusciti e ripetibili.

Tabella riassuntiva:

Modello Temperatura massima Dimensioni del tubo (Diametro x Lunghezza) Ideale per
H14HT 1400°C 2.5" x 12" Lavori di laboratorio per scopi generali, ricottura, sintesi sotto 1400°C
H18-40HT 1760°C continuo, 1800°C max 2.5" x 12" Lavorazione di ceramiche avanzate, leghe ad alta temperatura, materiali speciali
3H18-40HT 1760°C continuo 2.5" o 4" x 27" Lavorazione di campioni più grandi, zone calde uniformi più lunghe

Pronto a migliorare la tua lavorazione termica con una soluzione di forno personalizzata? Sfruttando la R&S eccezionale e la produzione interna, KINTEK fornisce a diversi laboratori soluzioni avanzate per forni ad alta temperatura. La nostra linea di prodotti, che comprende forni a muffola, tubolari, rotanti, forni a vuoto e a atmosfera, e sistemi CVD/PECVD, è completata dalla nostra forte capacità di personalizzazione approfondita per soddisfare con precisione i requisiti sperimentali unici. Contattaci oggi per discutere di come possiamo ottimizzare l'efficienza e i risultati del tuo laboratorio!

Guida Visiva

Quali sono le dimensioni e le capacità di temperatura dei modelli di forni tubolari orizzontali a zona singola? Esplora le specifiche chiave per il tuo laboratorio Guida Visiva

Prodotti correlati

Domande frequenti

Prodotti correlati

1700℃ Forno tubolare da laboratorio ad alta temperatura con tubo in quarzo o allumina

1700℃ Forno tubolare da laboratorio ad alta temperatura con tubo in quarzo o allumina

Forno tubolare KINTEK con tubo in allumina: Riscaldamento di precisione fino a 1700°C per sintesi di materiali, CVD e sinterizzazione. Compatto, personalizzabile e pronto per il vuoto. Esplora ora!

1400℃ Forno tubolare da laboratorio ad alta temperatura con tubo in quarzo e allumina

1400℃ Forno tubolare da laboratorio ad alta temperatura con tubo in quarzo e allumina

Forno tubolare KINTEK con tubo in allumina: Lavorazione di precisione ad alta temperatura fino a 2000°C per i laboratori. Ideale per sintesi di materiali, CVD e sinterizzazione. Sono disponibili opzioni personalizzabili.

Forno a vuoto da laboratorio ad alta pressione Forno tubolare al quarzo

Forno a vuoto da laboratorio ad alta pressione Forno tubolare al quarzo

Forno tubolare ad alta pressione KINTEK: riscaldamento di precisione fino a 1100°C con controllo della pressione a 15Mpa. Ideale per sinterizzazione, crescita di cristalli e ricerca di laboratorio. Sono disponibili soluzioni personalizzabili.

Forno tubolare al quarzo da laboratorio Forno tubolare riscaldante RTP

Forno tubolare al quarzo da laboratorio Forno tubolare riscaldante RTP

Il forno a tubi a riscaldamento rapido RTP di KINTEK offre un controllo preciso della temperatura, un riscaldamento rapido fino a 100°C/sec e opzioni di atmosfera versatili per applicazioni di laboratorio avanzate.

Forno a muffola da laboratorio con sollevamento dal basso

Forno a muffola da laboratorio con sollevamento dal basso

Aumentate l'efficienza del laboratorio con il forno di sollevamento inferiore KT-BL: controllo preciso a 1600℃, uniformità superiore e maggiore produttività per la scienza dei materiali e la ricerca e sviluppo.

Forno ad atmosfera inerte controllata con azoto da 1400℃

Forno ad atmosfera inerte controllata con azoto da 1400℃

Forno ad atmosfera controllata KT-14A per laboratori e industria. Temperatura massima di 1400°C, tenuta sotto vuoto, controllo del gas inerte. Sono disponibili soluzioni personalizzabili.

1700℃ Forno a muffola ad alta temperatura per laboratorio

1700℃ Forno a muffola ad alta temperatura per laboratorio

Forno a muffola KT-17M: forno da laboratorio ad alta precisione a 1700°C con controllo PID, efficienza energetica e dimensioni personalizzabili per applicazioni industriali e di ricerca.

Forno a muffola ad alta temperatura per il laboratorio di deceraggio e pre-sinterizzazione

Forno a muffola ad alta temperatura per il laboratorio di deceraggio e pre-sinterizzazione

Forno di sinterizzazione e pre-sinterizzazione KT-MD per ceramiche - controllo preciso della temperatura, design efficiente dal punto di vista energetico, dimensioni personalizzabili. Aumentate l'efficienza del vostro laboratorio oggi stesso!

1800℃ Forno a muffola ad alta temperatura per laboratorio

1800℃ Forno a muffola ad alta temperatura per laboratorio

Forni a muffola KINTEK: Riscaldamento di precisione a 1800°C per i laboratori. Efficienti dal punto di vista energetico, personalizzabili e con controllo PID. Ideale per sinterizzazione, ricottura e ricerca.

1700℃ Forno ad atmosfera inerte controllata con azoto

1700℃ Forno ad atmosfera inerte controllata con azoto

Forno ad atmosfera controllata KT-17A: riscaldamento preciso a 1700°C con controllo del vuoto e del gas. Ideale per la sinterizzazione, la ricerca e la lavorazione dei materiali. Esplora ora!

Forno a muffola da 1400℃ per laboratorio

Forno a muffola da 1400℃ per laboratorio

Forno a muffola KT-14M: riscaldamento di precisione a 1400°C con elementi SiC, controllo PID e design ad alta efficienza energetica. Ideale per i laboratori.

Forno per trattamenti termici sottovuoto con rivestimento in fibra ceramica

Forno per trattamenti termici sottovuoto con rivestimento in fibra ceramica

Il forno a vuoto KINTEK con rivestimento in fibra ceramica offre una lavorazione precisa ad alta temperatura fino a 1700°C, garantendo una distribuzione uniforme del calore e un'efficienza energetica. Ideale per laboratori e produzione.

2200 ℃ Forno per il trattamento termico e la sinterizzazione sotto vuoto del tungsteno

2200 ℃ Forno per il trattamento termico e la sinterizzazione sotto vuoto del tungsteno

Forno a vuoto a 2200°C in tungsteno per la lavorazione di materiali ad alta temperatura. Controllo preciso, vuoto superiore, soluzioni personalizzabili. Ideale per la ricerca e le applicazioni industriali.

Forno a tubo rotante inclinato sotto vuoto da laboratorio Forno a tubo rotante

Forno a tubo rotante inclinato sotto vuoto da laboratorio Forno a tubo rotante

Forno rotante da laboratorio KINTEK: riscaldamento di precisione per calcinazione, essiccazione e sinterizzazione. Soluzioni personalizzabili con vuoto e atmosfera controllata. Migliorate la ricerca ora!

Forno tubolare al quarzo da laboratorio verticale Forno tubolare

Forno tubolare al quarzo da laboratorio verticale Forno tubolare

Forno tubolare verticale di precisione KINTEK: riscaldamento a 1800℃, controllo PID, personalizzabile per i laboratori. Ideale per CVD, crescita di cristalli e test sui materiali.

Forno per il trattamento termico sottovuoto del molibdeno

Forno per il trattamento termico sottovuoto del molibdeno

Forno sottovuoto per molibdeno ad alte prestazioni per un trattamento termico preciso a 1400°C. Ideale per sinterizzazione, brasatura e crescita di cristalli. Durevole, efficiente e personalizzabile.

Forno a tubo rotante a funzionamento continuo sigillato sotto vuoto Forno a tubo rotante

Forno a tubo rotante a funzionamento continuo sigillato sotto vuoto Forno a tubo rotante

Forno a tubo rotante di precisione per il trattamento continuo sotto vuoto. Ideale per calcinazione, sinterizzazione e trattamento termico. Personalizzabile fino a 1600℃.

Forno ad atmosfera inerte controllata ad azoto e idrogeno

Forno ad atmosfera inerte controllata ad azoto e idrogeno

Scoprite il forno ad atmosfera di idrogeno di KINTEK per una sinterizzazione e una ricottura precise in ambienti controllati. Fino a 1600°C, funzioni di sicurezza, personalizzabile.

Forno a tubo rotante a più zone di riscaldamento Split Forno a tubo rotante

Forno a tubo rotante a più zone di riscaldamento Split Forno a tubo rotante

Forno tubolare rotante multizona a split di precisione per la lavorazione di materiali ad alta temperatura, con inclinazione regolabile, rotazione di 360° e zone di riscaldamento personalizzabili. Ideale per i laboratori.

Macchina rotante inclinata del forno a tubo PECVD della deposizione chimica potenziata dal plasma

Macchina rotante inclinata del forno a tubo PECVD della deposizione chimica potenziata dal plasma

Forno a tubo PECVD avanzato per la deposizione precisa di film sottili. Riscaldamento uniforme, sorgente di plasma RF, controllo del gas personalizzabile. Ideale per la ricerca sui semiconduttori.


Lascia il tuo messaggio