
CVD & PECVD Furnace
Macchina versatile su misura dell'attrezzatura di deposizione di vapore chimica del forno della metropolitana di CVD
Numero articolo : KT-CTF16
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Temperatura massima
- 1600℃
- Precisione di controllo della temperatura
- ±1℃
- Pressione del vuoto (opzione alto vuoto)
- 6x10-5Pa

Spedizione:
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Forno tubolare CVD avanzato di KINTEK: precisione, versatilità e personalizzazione
Grazie a un'eccezionale attività di ricerca e sviluppo e alla produzione interna, KINTEK offre a diversi laboratori e clienti industriali soluzioni avanzate di forni ad alta temperatura. La nostra ampia linea di prodotti, che comprende forni a muffola, a tubo, forni rotativi, forni a vuoto e ad atmosfera e sistemi specializzati CVD/PECVD/MPCVD, è sostenuta da una forte capacità di personalizzazione. Ci impegniamo a soddisfare con precisione i vostri requisiti sperimentali e produttivi unici.
Panoramica del prodotto: Forno tubolare CVD ad alte prestazioni
Il forno a tubo per la deposizione chimica da vapore (CVD) di KINTEK è stato meticolosamente progettato per processi che richiedono un controllo preciso della temperatura, dell'atmosfera e del flusso di gas. È ideale per depositare film sottili di alta qualità di vari materiali, compresi materiali isolanti, metallici e leghe metalliche, fondamentali per la ricerca e le applicazioni industriali. I nostri forni CVD sono generalmente dotati di zone di riscaldamento multiple per un'uniformità di temperatura superiore, di robusti sistemi di vuoto e di sofisticate stazioni di controllo del flusso di gas di massa per un'erogazione accurata dei precursori. A seconda della configurazione, questi sistemi possono raggiungere temperature fino a 1600°C (come nel nostro modello KT-CTF16-60) e livelli di vuoto fino a 6x10 -5 Pa con opzioni di alto vuoto.
Vantaggi e caratteristiche principali
I nostri forni tubolari CVD sono progettati per offrire prestazioni e affidabilità eccezionali per i vostri processi critici:
- Controllo preciso della temperatura e uniformità: Il riscaldamento multizona (ad esempio, 3x300 mm nel KT-CTF16-60) e i controllori PID avanzati (precisione di ±1°C) assicurano profili di temperatura stabili e uniformi, essenziali per una qualità costante dei film.
- Funzionamento versatile ad alta temperatura: In grado di raggiungere temperature elevate (ad esempio, fino a 1600°C, temperatura di lavoro costante di 1550°C per il modello KT-CTF16-60), adatto a un'ampia gamma di processi CVD e sintesi di materiali.
- Gestione avanzata dei gas: I sistemi di controllo del flusso di massa (MFC) multicanale consentono una miscelazione e un'erogazione precisa dei gas reagenti, con elevata linearità (±0,5% F.S.) e ripetibilità (±0,2% F.S.).
- Capacità flessibili di vuoto e atmosfera: I sistemi possono essere configurati per vari livelli di vuoto, dalle pompe rotative a palette standard (ad esempio, 10Pa) alle stazioni di pompe molecolari ad alto vuoto (ad esempio, 6x10 -5 Pa), o operare in atmosfere inerti/reattive controllate.
- Costruzione durevole: Utilizza tubi da forno di elevata purezza (ad es., Al 2 O 3 ) e materiali della camera di qualità (ad es. fibra policristallina di allumina) per garantire la longevità e l'integrità del processo.
- Interfaccia facile da usare: L'opzione dei controllori PID digitali o dei controllori PID touch screen offre un funzionamento intuitivo, la registrazione dei dati e una facile configurazione.
- Design personalizzabile: Su misura per le vostre esigenze specifiche, dal diametro del tubo alla lunghezza della zona di riscaldamento, dai canali del gas ai componenti del vuoto.
- Compatto ed efficiente: Progettati per essere efficienti dal punto di vista dello spazio senza compromettere le prestazioni, sono adatti a diversi ambienti di laboratorio e industriali.
Specifiche tecniche (esempio: modello KT-CTF16-60)
Le seguenti specifiche si riferiscono al nostro modello KT-CTF16-60. Si prega di notare che le specifiche possono essere personalizzate in base alle vostre esigenze.
Modello del forno | KT-CTF16-60 |
---|---|
Temperatura massima | 1600℃ |
Temperatura di lavoro costante | 1550℃ |
Materiale del tubo del forno | Tubo Al2O3 di elevata purezza |
Diametro del tubo del forno | 60 mm |
Zona di riscaldamento | 3x300mm |
Materiale della camera | Fibra policristallina di allumina |
Elemento di riscaldamento | Carburo di silicio |
Velocità di riscaldamento | 0-10℃/min |
Coppia termica | Tipo S |
Controllore di temperatura | Controllore PID digitale/controllore PID touch screen |
Precisione del controllo della temperatura | ±1℃ |
Unità di controllo preciso del gas | |
Misuratore di portata | Misuratore di portata massica MFC |
Canali gas | 3 canali (personalizzabili) |
Portata (esempio) |
MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCM CH4 MFC3: 0-100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 (personalizzabile) |
Linearità | ±0,5% F.S. |
Ripetibilità | ±0,2% F.S. |
Linea di tubi e valvola | Acciaio inossidabile |
Pressione massima di esercizio | 0,45MPa |
Controllore del flussometro | Controllore digitale a manopola/controller touch screen |
Unità di vuoto standard (opzionale) | |
Pompa per vuoto | Pompa per vuoto rotativa a palette |
Portata della pompa | 4L/S |
Porta di aspirazione del vuoto | KF25 |
Vacuometro | Vacuometro Pirani/Resistenza al silicone |
Pressione nominale del vuoto | 10Pa |
Unità per alto vuoto (opzionale) | |
Pompa per vuoto | Pompa rotativa a palette+pompa molecolare |
Portata della pompa | 4L/S+110L/S |
Porta di aspirazione del vuoto | KF25 |
Vacuometro | Vacuometro composto |
Pressione nominale del vuoto | 6x10-5Pa |
Le specifiche e le configurazioni di cui sopra possono essere personalizzate |
Configurazioni di sistema CVD personalizzabili
In KINTEK siamo specializzati nell'adattare i nostri sistemi di forni CVD alle vostre precise esigenze di ricerca o produzione. Esplorate alcuni esempi delle nostre configurazioni versatili e personalizzabili:





Principio di funzionamento
La deposizione chimica da vapore (CVD) è una tecnica versatile di deposizione di film sottili in cui un materiale solido viene formato su un substrato riscaldato da reagenti gassosi. In un forno tubolare KINTEK CVD, il substrato viene collocato all'interno di un tubo di elevata purezza (in genere quarzo o allumina) e riscaldato a una temperatura controllata con precisione. Una miscela accuratamente dosata di gas precursori viene introdotta nel tubo tramite un sistema di controllo del flusso di massa. Questi gas reagiscono o si decompongono sulla superficie calda del substrato o in prossimità di essa, dando luogo alla deposizione del film sottile desiderato. I principali aspetti operativi includono:
- Ambiente ad alta temperatura: Il forno crea una zona stabile ad alta temperatura necessaria per le reazioni chimiche.
- Flusso di gas controllato: I controllori di flusso di massa (MFC) assicurano un'erogazione accurata e ripetibile di gas precursori e carrier.
- Vuoto o atmosfera controllata: Un sistema a vuoto rimuove i contaminanti e i sottoprodotti indesiderati, oppure è possibile mantenere un'atmosfera controllata (inerte o reattiva) per influenzare la chimica di deposizione. Alcuni sistemi possono impiegare scariche a bagliore a radiofrequenza (RF) o altre tecniche di potenziamento del plasma per la deposizione a bassa temperatura o a tassi di deposizione più elevati.
- Crescita uniforme del film: Un'attenta progettazione delle zone di riscaldamento e della dinamica del flusso di gas favorisce l'uniformità dello spessore e della composizione del film sul substrato.
Questo processo è ampiamente utilizzato nella produzione di semiconduttori, celle solari, rivestimenti protettivi, nanomateriali e altri dispositivi elettronici e ottici avanzati.
Ampia gamma di applicazioni
I forni tubolari CVD a più zone di KINTEK sono strumenti indispensabili in diversi settori della ricerca e dell'industria:
- Sintesi di nanomateriali: Ideale per la crescita di nanofili, nanotubi (ad esempio, nanotubi di carbonio) e la preparazione di nanofilm per lo sviluppo di materiali avanzati.
- Tecnologie di rivestimento avanzate: Ampiamente utilizzate per depositare film metallici, film ceramici (ossidi, nitruri, carburi) e film compositi per migliorare le proprietà superficiali come la durezza, la resistenza alla corrosione o la conduttività.
- Semiconduttori ed elettronica: Essenziale per depositare strati isolanti, semiconduttori e conduttivi nella fabbricazione di circuiti integrati, sensori e altri componenti elettronici.
- Lavorazione di materiali per batterie: Adatto per l'essiccazione, la sinterizzazione e la modifica della superficie dei materiali delle batterie per dispositivi di accumulo di energia ad alte prestazioni.
- Sinterizzazione e ricottura ad alta temperatura: Impiegati per la sinterizzazione in atmosfera ad alta temperatura, la riduzione in atmosfera e i processi di ricottura per la densificazione dei materiali e il perfezionamento delle proprietà.
- Rivestimento sotto vuoto e in atmosfera: Le capacità di alto vuoto lo rendono perfetto per le applicazioni in cui la purezza e la qualità del rivestimento sono fondamentali.
- Ricerca e sviluppo: Ampiamente utilizzato nelle università e negli istituti di ricerca scientifica per studi fondamentali sulla scienza dei materiali, compresi gli esperimenti CVD/CVI (Infiltrazione chimica del vapore).
- Processi potenziati al plasma: Può essere adattato per la CVD potenziata al plasma (PECVD), la pulizia al plasma e l'incisione, ampliando la sua versatilità funzionale.
Pacchetto standard (esempio per KT-CTF16-60)
No. | Descrizione | Quantità |
---|---|---|
1 | Corpo del forno con controllo della temperatura | 1 |
2 | Tubo in allumina di elevata purezza o quarzo (come da ordine) | 1 |
3 | Flange di tenuta al vuoto con porte | 2 set |
4 | Blocchi termici/tappi per tubi | 2 |
5 | Gancio per blocco termico a tubo | 1 |
6 | Guanti resistenti al calore | 1 paio |
7 | Unità di controllo gas di precisione (MFC come da ordine) | 1 set |
8 | Unità per il vuoto (pompa e manometro come da ordine) | 1 set |
9 | Manuale operativo | 1 |
Configurazioni e personalizzazioni opzionali
Migliorate il vostro sistema CVD con una serie di funzioni opzionali per soddisfare specifiche esigenze sperimentali:
- Sistemi di rilevamento e monitoraggio dei gas in provetta (ad esempio, per H2, O2, ecc.).
- Moduli indipendenti di monitoraggio della temperatura del forno e di registrazione dei dati.
- Porta di comunicazione RS 485 per il controllo remoto del PC e l'esportazione dei dati.
- Varie opzioni di controllo della portata di alimentazione del gas, compresi diversi intervalli per i misuratori di portata massica e i misuratori di portata a galleggiante.
- Controllori di temperatura touch screen avanzati con funzioni versatili e di facile utilizzo per l'operatore (ad esempio, rampe programmabili, registrazione dei dati).
- Configurazioni aggiornate di stazioni di pompaggio ad alto vuoto, che incorporano opzioni come pompe da vuoto a palette, pompe molecolari o pompe a diffusione.
- Sistemi di erogazione di precursori liquidi/solidi (ad esempio, gorgogliatori, vaporizzatori).
- Sistemi di abbattimento dei gas di scarico.
Collaborate con KINTEK per le vostre soluzioni CVD
Siete pronti a migliorare i vostri processi di ricerca o industriali con un forno tubolare CVD all'avanguardia? Il team KINTEK si impegna a fornirvi un sistema perfettamente in linea con i vostri requisiti applicativi, grazie alla nostra esperienza nella tecnologia ad alta temperatura e nella personalizzazione.
Contattateci oggi stesso per discutere le vostre esigenze specifiche, esplorare le opzioni di personalizzazione o richiedere un preventivo dettagliato. Lasciate che vi aiutiamo a raggiungere risultati senza precedenti nei vostri sforzi di deposizione di materiali.
FAQ
Cos'è E Come Funziona Un Forno A Tubi?
Quali Sono Le Principali Applicazioni Dei Forni Tubolari Multizona?
Qual è Il Principio Di Una Macchina CVD?
Che Cos'è Un Forno A Tubi Verticale?
Che Cos'è Un Forno A Induzione Sotto Vuoto?
Quali Sono Le Principali Applicazioni Di Un Forno A Vuoto?
A Cosa Serve Una Macchina PECVD?
A Cosa Serve Un Forno Ad Atmosfera?
Quali Sono Le Principali Applicazioni Dei Forni A Tubi?
Quali Sono Le Caratteristiche Principali Dei Forni Tubolari Multizona?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Una Macchina CVD?
Quali Sono Le Applicazioni Di Un Forno A Tubi Verticali?
Quali Sono Le Principali Applicazioni Dei Forni A Induzione Sottovuoto?
Quali Sono Le Caratteristiche Principali Di Un Forno A Vuoto?
Quali Sono I Principali Tipi Di Macchine PECVD?
Quali Sono Le Caratteristiche Principali Di Un Forno Ad Atmosfera?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno A Tubi?
Come Funziona Un Forno Tubolare Multizona?
Quali Sono Le Applicazioni Di Una Macchina CVD?
Quali Sono I Vantaggi Di Un Forno Tubolare Verticale?
Come Funziona Un Forno A Induzione Sottovuoto?
Come Funziona Un Forno A Vuoto?
Come Funziona Una Macchina PECVD?
Come Funziona Un Forno Ad Atmosfera?
Quali Tipi Di Forni Tubolari Sono Disponibili?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno A Tubi Multizona?
Quali Sono Le Caratteristiche Principali Di Una Macchina CVD?
Come Funziona Un Forno A Tubo Verticale?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno A Induzione Sottovuoto?
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Quali Intervalli Di Temperatura Possono Raggiungere I Forni A Tubo?
Quali Sono I Tipi Di Forni Tubolari Multizona Disponibili?
Quali Tipi Di Macchine CVD Sono Disponibili?
Quali Tipi Di Forni Tubolari Verticali Sono Disponibili?
Quali Sono I Tipi Di Forni A Induzione Sottovuoto Disponibili?
Quali Tipi Di Materiali Possono Essere Lavorati In Un Forno A Vuoto?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Una Macchina PECVD?
Quali Tipi Di Gas Possono Essere Utilizzati In Un Forno Ad Atmosfera?
I Forni Tubolari Possono Operare In Atmosfere Diverse?
Perché Scegliere Un Forno Tubolare Verticale Rispetto A Uno Orizzontale?
Perché Il Controllo Della Temperatura è Importante Nei Forni A Induzione Sotto Vuoto?
Qual è La Differenza Tra Forni A Vuoto A Parete Calda E A Parete Fredda?
Quali Materiali Possono Essere Depositati Con Una Macchina PECVD?
Quali Sono Le Caratteristiche Di Sicurezza Disponibili Nei Forni Ad Atmosfera Avanzati?
Cosa Rende Speciali I Forni Tubolari KINTEK?
Quali Intervalli Di Temperatura Possono Raggiungere I Forni A Tubi Verticali?
Quali Materiali Possono Essere Lavorati In Un Forno A Induzione Sotto Vuoto?
I Forni A Vuoto Possono Essere Personalizzati Per Applicazioni Specifiche?
Perché La PECVD è Preferita Ad Altri Metodi Di Deposizione?
I Forni A Tubi Verticali Sono Personalizzabili?
In Che Modo L'ambiente Sottovuoto Favorisce La Lavorazione Dei Materiali?
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