Forno CVD & PECVD
Forno a Tubo PECVD Inclinato e Rotante per Deposizione Chimica da Vapore Potenziata al Plasma
Numero articolo : KT-PED
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Temperatura di riscaldamento
- ≤800℃
- Grado di vuoto
- ≤5×10-5Pa
- Potenza di uscita
- 500W—1000W
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Macchina per Rivestimenti a Deposizione Chimica da Vapore Potenziata al Plasma (PECVD)


Sistemi PECVD Avanzati di KINTEK: Rivestimenti di Precisione, Su Misura per le Tue Esigenze
Sfruttando una R&D eccezionale e una produzione interna, KINTEK offre sistemi all'avanguardia di Deposizione Chimica da Vapore Potenziata al Plasma (PECVD) progettati per diversi laboratori e applicazioni industriali. La PECVD è una sofisticata tecnica di deposizione sottovuoto di film sottili che impiega il plasma per attivare i gas precursori. Ciò consente la creazione di rivestimenti uniformi e di alta qualità a temperature significativamente più basse rispetto alla tradizionale Deposizione Chimica da Vapore (CVD), ampliando le possibilità per substrati sensibili al calore (come le plastiche) e una vasta gamma di materiali di rivestimento (inclusi dielettrici, semiconduttori e isolanti).
Le nostre macchine PECVD sono un'offerta chiave all'interno della gamma completa di soluzioni avanzate di forni ad alta temperatura di KINTEK, che include anche Forni a Muffola, a Tubo, Rotativi, Sottovuoto e in Atmosfera, e altri Sistemi CVD/MPCVD. Siamo orgogliosi della nostra forte capacità di personalizzazione approfondita, garantendo che il vostro sistema PECVD sia progettato con precisione per soddisfare le vostre esigenze sperimentali e produttive uniche.
Caratteristiche Principali
Le Macchine per Rivestimenti a Deposizione Chimica da Vapore Potenziata al Plasma (PECVD) di KINTEK offrono una serie di caratteristiche progettate per prestazioni superiori e versatilità:
- Deposizione a Bassa Temperatura: Consente la formazione di film di alta qualità su substrati delicati o a basso punto di fusione senza danni termici, ampliando significativamente la compatibilità dei materiali.
- Alte Velocità di Deposizione: Raggiunge una rapida crescita del film, massimizzando la produttività, riducendo i tempi di lavorazione e aumentando l'efficienza complessiva.
- Film Uniformi e Resistenti alle Crepe: Produce rivestimenti con una consistenza eccezionale nello spessore e nelle proprietà su tutto il substrato, minimizzando difetti come le crepe per risultati affidabili e durevoli.
- Eccellente Adesione al Substrato: Garantisce un forte legame tra il film depositato e il materiale del substrato, portando a prestazioni di lunga durata e prevenendo la delaminazione.
- Capacità di Rivestimento Versatili: Supporta la deposizione di una vasta gamma di materiali, come SiO2, SiNx, SiOxNy e altri, soddisfacendo diverse esigenze applicative.
- Rivestimento Conforme su Geometrie Complesse: In grado di rivestire uniformemente substrati con forme e topografie intricate, garantendo una copertura completa e prestazioni ottimali.
- Design User-Friendly: Progettata per basse esigenze di manutenzione e installazione semplice, minimizzando i tempi di fermo e semplificando l'integrazione nel vostro flusso di lavoro.
Specifiche Tecniche
| Portacampioni | Dimensione | 1-6 pollici |
| Velocità di rotazione | 0-20rpm regolabile | |
| Temperatura di riscaldamento | ≤800℃ | |
| Precisione di controllo | ±0.5℃ Controllore PID SHIMADEN | |
| Spurgo gas | Misuratore di portata | CONTROLLORE MISURATORE DI PORTATA DI MASSA (MFC) |
| Canali | 4 canali | |
| Metodo di raffreddamento | Raffreddamento ad acqua circolante | |
| Camera a vuoto | Dimensione camera | Φ500mm X 550mm |
| Porta di osservazione | Porta a vista completa con deflettore | |
| Materiale camera | Acciaio inossidabile 316 | |
| Tipo porta | Porta ad apertura frontale | |
| Materiale coperchio | Acciaio inossidabile 304 | |
| Porta pompa a vuoto | Flangia CF200 | |
| Porta ingresso gas | Connettore VCR φ6 | |
| Alimentazione plasma | Potenza sorgente | Alimentazione CC o RF |
| Modalità di accoppiamento | Induttiva o a piastre capacitive | |
| Potenza in uscita | 500W—1000W | |
| Potenza di polarizzazione | 500v | |
| Pompa a vuoto | Pre-pompa | Pompa a vuoto a palette 15L/S |
| Porta pompa turbomolecolare | CF150/CF200 620L/S-1600L/S | |
| Porta di sfogo | KF25 | |
| Velocità di pompaggio | Pompa a palette:15L/s,Pompa turbomolecolare:1200l/s o 1600l/s | |
| Grado di vuoto | ≤5×10-5Pa | |
| Sensore di vuoto | Manometro a ionizzazione/resistenza/manometro a membrana | |
| Sistema | Alimentazione elettrica | AC 220V /380 50Hz |
| Potenza nominale | 5kW | |
| Dimensioni | 900mm X 820mm X870mm | |
| Peso | 200kg |
Applicazioni
Le macchine per rivestimenti a Deposizione Chimica da Vapore Potenziata al Plasma (PECVD) di KINTEK offrono una soluzione versatile per un'ampia gamma di settori e applicazioni all'avanguardia:
- Illuminazione a LED: Deposizione di film dielettrici e semiconduttori di alta qualità cruciali per diodi emettitori di luce (LED) efficienti e durevoli.
- Semiconduttori di Potenza: Formazione di strati isolanti, ossidi di gate e altri componenti critici in film per dispositivi a semiconduttore di potenza.
- MEMS (Sistemi Microelettromeccanici): Fabbricazione di film sottili precisi per sensori, attuatori e altri dispositivi in micro-scala.
- Rivestimenti Ottici: Deposizione di rivestimenti antiriflesso, filtri ottici, strati protettivi e altri componenti ottici funzionali.
- Celle Solari a Film Sottile: Produzione di film sottili di silicio amorfo e microcristallino, così come altri materiali semiconduttori, per dispositivi fotovoltaici.
- Modifica Superficiale: Miglioramento delle proprietà superficiali dei materiali, inclusa una migliore resistenza alla corrosione, all'usura, durezza e biocompatibilità.
- Nanotecnologia: Sintesi di nanomateriali avanzati, come nanoparticelle, nanofili e film ultra-sottili per nuove applicazioni.
Perché Scegliere KINTEK per la Tecnologia PECVD?
Scegliere KINTEK per le vostre esigenze PECVD significa investire in qualità, affidabilità e soluzioni su misura:
- Personalizzazione Approfondita: Siamo specializzati nel configurare sistemi PECVD secondo le vostre specifiche esatte, garantendo prestazioni ottimali per le vostre applicazioni uniche e obiettivi di ricerca.
- R&D e Produzione Avanzate: La nostra competenza interna guida l'innovazione, permettendoci di offrire tecnologia PECVD all'avanguardia.
- Costruzione di Alta Qualità: I nostri sistemi presentano design robusti realizzati con materiali premium come l'acciaio inossidabile per stabilità, durata e lunga vita operativa.
- Prestazioni Affidabili: Progettati per risultati coerenti, le nostre macchine PECVD producono film sottili di alta qualità, uniformi e con eccellente adesione.
- Supporto Completo: Dalla facile installazione alle basse esigenze di manutenzione, garantiamo che i nostri sistemi siano user-friendly e supportati da un servizio clienti reattivo.
- Versatilità: Le nostre macchine possono depositare una vasta gamma di materiali, rendendole adatte a diversi processi di ricerca e industriali.
Principio di Funzionamento
La Deposizione Chimica da Vapore Potenziata al Plasma (PECVD) è un processo che utilizza il plasma (un gas ionizzato) per stimolare e potenziare le reazioni chimiche durante il processo di deposizione di film sottili. A differenza della CVD convenzionale che si basa esclusivamente sulle alte temperature per guidare le reazioni, la PECVD impiega plasma ad alta energia. Questo plasma energizza i gas precursori, portando alla formazione di specie reattive a temperature del substrato significativamente più basse. Queste specie reattive si adsorbono quindi sulla superficie del substrato e subiscono reazioni chimiche per formare un film solido e sottile. Questo metodo consente la deposizione di vari film di alta qualità, come SiO2, SiNx e SiOxNy, ed è particolarmente efficace per creare film sottili di silicio amorfo o microcristallino utilizzati nelle celle solari. Le temperature di lavorazione più basse minimizzano lo stress termico sui substrati, riducono i microfori e prevengono le crepe, rendendo la PECVD ideale per una gamma più ampia di materiali e applicazioni.
Personalizza la Tua Soluzione PECVD con KINTEK
Pronto a elevare le tue capacità di deposizione di film sottili? Gli esperti di KINTEK sono a disposizione per discutere le tue esigenze e sfide specifiche del progetto. Possiamo aiutarti a configurare un sistema di Deposizione Chimica da Vapore Potenziata al Plasma perfettamente adattato alle tue esigenze sperimentali o produttive. Beneficia della nostra profonda esperienza in personalizzazione e tecnologia avanzata per ottenere risultati superiori.
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Fidato dai Leader del Settore
FAQ
Quali Sono Le Principali Applicazioni Di Un Forno A Tubi Rotanti?
Cos'è E Come Funziona Un Forno A Tubi?
Qual è Il Principio Di Un Forno Rotante?
A Cosa Serve Un Forno Rotante?
Quali Sono Le Principali Applicazioni Dei Forni Tubolari Multizona?
Quali Sono Le Applicazioni Più Comuni Di Un Forno A Tubi Divisi?
Che Cos'è Un Forno A Tubi Verticale?
Quali Sono Le Caratteristiche Principali Di Un Forno A Tubo Rotante?
Quali Sono Le Principali Applicazioni Dei Forni A Tubi?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno Rotativo?
Quali Sono I Principali Tipi Di Forni Rotanti Disponibili?
Quali Sono Le Caratteristiche Principali Dei Forni Tubolari Multizona?
Quali Sono Le Caratteristiche Principali Di Un Forno A Tubo Diviso?
Quali Sono Le Applicazioni Di Un Forno A Tubi Verticali?
Come Funziona Un Forno A Tubo Rotante?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno A Tubi?
Quali Sono Le Caratteristiche Principali Di Un Forno Rotativo?
Come Funziona Un Forno Rotante?
Come Funziona Un Forno Tubolare Multizona?
Come Funziona Un Forno A Tubo Diviso?
Quali Sono I Vantaggi Di Un Forno Tubolare Verticale?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno A Tubi Rotanti?
Quali Tipi Di Forni Tubolari Sono Disponibili?
Quali Sono Le Applicazioni Più Comuni Di Un Forno Rotativo?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno Rotante?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno A Tubi Multizona?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno A Tubi Divisi?
Come Funziona Un Forno A Tubo Verticale?
Che Temperatura Può Raggiungere Un Forno A Tubo Rotante?
Quali Intervalli Di Temperatura Possono Raggiungere I Forni A Tubo?
In Che Modo Un Forno Rotante Tratta I Diversi Materiali?
Quali Sono Le Caratteristiche Di Sicurezza Dei Forni Rotanti?
Quali Sono I Tipi Di Forni Tubolari Multizona Disponibili?
Quale Temperatura Può Raggiungere Un Forno A Tubo Diviso?
Quali Tipi Di Forni Tubolari Verticali Sono Disponibili?
Quali Tipi Di Materiali Possono Essere Lavorati In Un Forno A Tubi Rotanti?
I Forni Tubolari Possono Operare In Atmosfere Diverse?
I Forni Rotanti Possono Essere Personalizzati Per Applicazioni Specifiche?
Perché Il Design Diviso è Vantaggioso In Un Forno A Tubi?
Perché Scegliere Un Forno Tubolare Verticale Rispetto A Uno Orizzontale?
Cosa Rende Speciali I Forni Tubolari KINTEK?
Quali Intervalli Di Temperatura Possono Raggiungere I Forni A Tubi Verticali?
I Forni A Tubi Verticali Sono Personalizzabili?
Scheda Tecnica del Prodotto
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