
CVD & PECVD Furnace
Macchina rotante inclinata del forno a tubo PECVD della deposizione chimica potenziata dal plasma
Numero articolo : KT-PED
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Temperatura di riscaldamento
- ≤800℃
- Grado di vuoto
- ≤5×10-5Pa
- Potenza di uscita
- 500W-1000W

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Macchina di rivestimento con deposizione di vapore chimico potenziata al plasma (PECVD)
Sistemi PECVD avanzati di KINTEK: rivestimento di precisione, su misura per le vostre esigenze
Grazie a un'eccezionale attività di ricerca e sviluppo e alla produzione interna, KINTEK offre sistemi all'avanguardia per la deposizione di vapore chimico potenziata al plasma (PECVD) progettati per diversi laboratori e applicazioni industriali. La PECVD è una sofisticata tecnica di deposizione di film sottili sotto vuoto che impiega il plasma per attivare i gas precursori. Ciò consente di creare rivestimenti uniformi e di alta qualità a temperature significativamente più basse rispetto alla tradizionale deposizione chimica da vapore (CVD), ampliando le possibilità per i substrati sensibili al calore (come le materie plastiche) e una vasta gamma di materiali di rivestimento (tra cui dielettrici, semiconduttori e isolanti).
Le nostre macchine PECVD sono un'offerta chiave all'interno della suite completa di soluzioni avanzate di forni ad alta temperatura di KINTEK, che comprende anche forni a muffola, a tubo, rotativi, forni a vuoto e ad atmosfera e altri sistemi CVD/MPCVD. Siamo orgogliosi della nostra profonda capacità di personalizzazione, che garantisce che il vostro sistema PECVD sia progettato con precisione per soddisfare i vostri requisiti sperimentali e produttivi.
Caratteristiche principali
Le macchine di rivestimento PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) di KINTEK offrono una serie di caratteristiche progettate per garantire prestazioni e versatilità superiori:
- Deposizione a bassa temperatura: Permette la formazione di film di alta qualità su substrati delicati o a basso punto di fusione senza danni termici, ampliando notevolmente la compatibilità dei materiali.
- Alta velocità di deposizione: Consente una rapida crescita del film, massimizzando la produttività, riducendo i tempi di lavorazione e aumentando la produttività complessiva.
- Film uniformi e resistenti alle crepe: Produce rivestimenti con un'eccezionale uniformità di spessore e proprietà su tutto il substrato, riducendo al minimo i difetti come le crepe, per risultati affidabili e duraturi.
- Eccellente adesione al substrato: Assicura una forte adesione tra il film depositato e il materiale del substrato, garantendo prestazioni durature e prevenendo la delaminazione.
- Capacità di rivestimento versatile: Supporta la deposizione di un'ampia gamma di materiali, come SiO2, SiNx, SiOxNy e altri, per soddisfare le diverse esigenze applicative.
- Rivestimento conforme su geometrie complesse: È in grado di rivestire uniformemente substrati con forme e topografie complesse, garantendo una copertura completa e prestazioni ottimali.
- Design facile da usare: Progettato per ridurre i requisiti di manutenzione e l'installazione, riduce al minimo i tempi di inattività e semplifica l'integrazione nel flusso di lavoro.
Specifiche tecniche
Portacampioni | Dimensioni | 1-6 pollici |
Velocità di rotazione | 0-20 giri/minuto regolabile | |
Temperatura di riscaldamento | ≤800℃ | |
Precisione di controllo | ±0,5℃ Regolatore PID SHIMADEN | |
Spurgo del gas | Misuratore di flusso | CONTROLLORE DEL FLUSSIMETRO DI MASSA (MFC) |
Canali | 4 canali | |
Metodo di raffreddamento | Raffreddamento ad acqua circolante | |
Camera a vuoto | Dimensione della camera | Φ500mm X 550mm |
Porta di osservazione | Porta di osservazione completa con deflettore | |
Materiale della camera | Acciaio inox 316 | |
Tipo di porta | Porta ad apertura frontale | |
Materiale del tappo | Acciaio inox 304 | |
Attacco pompa del vuoto | Flangia CF200 | |
Porta di ingresso del gas | Connettore φ6 VCR | |
Potenza del plasma | Alimentazione della sorgente | Alimentazione CC o RF |
Modalità di accoppiamento | Accoppiamento induttivo o capacitivo a piastra | |
Potenza di uscita | 500W-1000W | |
Potenza di polarizzazione | 500v | |
Pompa a vuoto | Pre-pompa | 15L/S Pompa per vuoto a palette |
Porta della pompa turbo | CF150/CF200 620L/S-1600L/S | |
Porta di scarico | KF25 | |
Velocità della pompa | Pompa a palette: 15L/s, Pompa turbo: 1200l/s或1600l/s | |
Grado di vuoto | ≤5×10-5Pa | |
Sensore di vuoto | Vuoto a ionizzazione/resistenza/manometro a film | |
Sistema | Alimentazione elettrica | AC 220V /380 50Hz |
Potenza nominale | 5kW | |
Dimensioni | 900 mm X 820 mm X870 mm | |
Peso | 200 kg |
Applicazioni
Le macchine di rivestimento PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) di KINTEK offrono una soluzione versatile per un'ampia gamma di settori e applicazioni all'avanguardia:
- Illuminazione LED: Deposizione di film dielettrici e semiconduttori di alta qualità, fondamentali per diodi ad emissione luminosa (LED) efficienti e duraturi.
- Semiconduttori di potenza: Formazione di strati isolanti, ossidi di gate e altri componenti critici dei film nei dispositivi a semiconduttore di potenza.
- MEMS (Sistemi microelettromeccanici): Realizzazione di film sottili precisi per sensori, attuatori e altri dispositivi su microscala.
- Rivestimenti ottici: Deposizione di rivestimenti antiriflesso, filtri ottici, strati protettivi e altri componenti ottici funzionali.
- Celle solari a film sottile: Produzione di film sottili di silicio amorfo e microcristallino e di altri materiali semiconduttori per dispositivi fotovoltaici.
- Modifica delle superfici: Miglioramento delle proprietà superficiali dei materiali, compresa una maggiore resistenza alla corrosione, all'usura, alla durezza e alla biocompatibilità.
- Nanotecnologia: Sintesi di nanomateriali avanzati, come nanoparticelle, nanofili e film ultrasottili per nuove applicazioni.
Perché collaborare con KINTEK per la tecnologia PECVD?
Scegliere KINTEK per le vostre esigenze PECVD significa investire in qualità, affidabilità e soluzioni personalizzate:
- Profonda personalizzazione: Siamo specializzati nella configurazione di sistemi PECVD in base alle vostre esatte specifiche, garantendo prestazioni ottimali per le vostre applicazioni uniche e i vostri obiettivi di ricerca.
- R&S e produzione avanzate: La nostra esperienza interna guida l'innovazione, permettendoci di offrire una tecnologia PECVD all'avanguardia.
- Costruzione di alta qualità: I nostri sistemi sono caratterizzati da un design rigido costruito con materiali pregiati, come l'acciaio inossidabile, per garantire stabilità, durata e una vita operativa prolungata.
- Prestazioni affidabili: Progettate per ottenere risultati costanti, le nostre macchine PECVD producono film sottili uniformi e di alta qualità con un'adesione eccellente.
- Assistenza completa: Dalla facilità di installazione ai bassi requisiti di manutenzione, garantiamo che i nostri sistemi siano facili da usare e supportati da un servizio clienti reattivo.
- Versatilità: Le nostre macchine possono depositare un'ampia gamma di materiali, rendendole adatte a diversi processi di ricerca e industriali.
Principio di funzionamento
La PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) è un processo che utilizza il plasma (un gas ionizzato) per stimolare e potenziare le reazioni chimiche durante il processo di deposizione di film sottili. A differenza della CVD convenzionale, che si affida esclusivamente alle alte temperature per pilotare le reazioni, la PECVD impiega un plasma ad alta energia. Questo plasma energizza i gas precursori, portando alla formazione di specie reattive a temperature del substrato significativamente più basse. Queste specie reattive si adsorbono sulla superficie del substrato e subiscono reazioni chimiche per formare un film solido e sottile. Questo metodo consente la deposizione di vari film di alta qualità, come SiO2, SiNx e SiOxNy, ed è particolarmente efficace per la creazione di film sottili di silicio amorfo o microcristallino utilizzati nelle celle solari. Le temperature di lavorazione più basse riducono al minimo lo stress termico sui substrati, riducono i fori di spillo e prevengono le cricche, rendendo la PECVD ideale per una più ampia gamma di materiali e applicazioni.
Personalizzate la vostra soluzione PECVD con KINTEK
Siete pronti a migliorare le vostre capacità di deposizione di film sottili? Gli esperti di KINTEK sono a disposizione per discutere le esigenze e le sfide specifiche del vostro progetto. Possiamo aiutarvi a configurare un sistema di Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition perfettamente adattato ai vostri requisiti sperimentali o di produzione. Approfittate della nostra profonda esperienza di personalizzazione e della nostra tecnologia avanzata per ottenere risultati superiori.
Contattateci oggi stesso per esplorare la vostra soluzione PECVD personalizzata!
FAQ
Cos'è E Come Funziona Un Forno A Tubi?
Quali Sono Le Principali Applicazioni Di Un Forno A Tubi Rotanti?
Qual è Il Principio Di Un Forno Rotante?
A Cosa Serve Un Forno Rotante?
Quali Sono Le Principali Applicazioni Dei Forni Tubolari Multizona?
Quali Sono Le Applicazioni Più Comuni Di Un Forno A Tubi Divisi?
Che Cos'è Un Forno A Tubi Verticale?
Quali Sono Le Principali Applicazioni Dei Forni A Tubi?
Quali Sono Le Caratteristiche Principali Di Un Forno A Tubo Rotante?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno Rotativo?
Quali Sono I Principali Tipi Di Forni Rotanti Disponibili?
Quali Sono Le Caratteristiche Principali Dei Forni Tubolari Multizona?
Quali Sono Le Caratteristiche Principali Di Un Forno A Tubo Diviso?
Quali Sono Le Applicazioni Di Un Forno A Tubi Verticali?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno A Tubi?
Come Funziona Un Forno A Tubo Rotante?
Quali Sono Le Caratteristiche Principali Di Un Forno Rotativo?
Come Funziona Un Forno Rotante?
Come Funziona Un Forno Tubolare Multizona?
Come Funziona Un Forno A Tubo Diviso?
Quali Sono I Vantaggi Di Un Forno Tubolare Verticale?
Quali Tipi Di Forni Tubolari Sono Disponibili?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno A Tubi Rotanti?
Quali Sono Le Applicazioni Più Comuni Di Un Forno Rotativo?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno Rotante?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno A Tubi Multizona?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno A Tubi Divisi?
Come Funziona Un Forno A Tubo Verticale?
Quali Intervalli Di Temperatura Possono Raggiungere I Forni A Tubo?
Che Temperatura Può Raggiungere Un Forno A Tubo Rotante?
In Che Modo Un Forno Rotante Tratta I Diversi Materiali?
Quali Sono Le Caratteristiche Di Sicurezza Dei Forni Rotanti?
Quali Sono I Tipi Di Forni Tubolari Multizona Disponibili?
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Perché Il Design Diviso è Vantaggioso In Un Forno A Tubi?
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Cosa Rende Speciali I Forni Tubolari KINTEK?
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This machine is a game-changer! The precision and efficiency are unmatched. Worth every penny!
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Incredible technology! The inclined rotary feature makes all the difference. Superb quality!
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Top-notch durability and advanced features. This machine is built to last. Impressive!
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Exceptional performance! The rotary design enhances uniformity. A must-have for labs!
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Outstanding machine! The plasma enhancement is brilliant. Delivered faster than expected.
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Perfect for high-throughput applications. The build quality is exceptional. Very satisfied!
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Innovative and reliable. The inclined tube design is genius. Works like a charm!
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Fantastic investment! The machine delivers consistent, high-quality results. Highly impressed!
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Macchina rotante inclinata del forno a tubo PECVD della deposizione chimica potenziata dal plasma
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