Prodotti Fornaci ad alta temperatura MPCVD 915MHz MPCVD Diamond Machine Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition System Reactor
915MHz MPCVD Diamond Machine Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition System Reactor

MPCVD

915MHz MPCVD Diamond Machine Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition System Reactor

Numero articolo : MP-CVD-101

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Potenza di uscita
3-75kW regolabile in continuo
Diametro dello stadio campione
≥200 mm
Frequenza operativa
915±15MHz
ISO & CE icon

Spedizione:

Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.

Vedi Specifiche

Perché Scegliere Noi

Processo di ordinazione semplice, prodotti di qualità e supporto dedicato per il successo della tua azienda.

Processo Semplice Qualità Assicurata Supporto Dedicato

Macchina diamantata MPCVD KINTEK: Rivoluzionare la sintesi del diamante

La macchina per diamanti MPCVD di KINTEK sfrutta la deposizione di vapore chimico al plasma a microonde (MPCVD) per sintetizzare diamanti di alta qualità con velocità e precisione senza precedenti. Questa tecnologia avanzata consente una crescita più rapida dei cristalli, una maggiore capacità produttiva e una migliore qualità dei diamanti rispetto ai metodi tradizionali.

Panoramica e componenti chiave

Dettagli MPCVD

Dettagli MPCVD

Sbloccare una produzione di diamanti superiore con KINTEK

La nostra macchina diamantata MPCVD offre vantaggi significativi per le vostre esigenze di sintesi del diamante:

  • Crescita accelerata dei cristalli: Raggiunge velocità di crescita da 10 a 100 volte superiori rispetto ai metodi tradizionali, aumentando in modo significativo l'efficienza della produzione.
  • Maggiore capacità produttiva: Sintetizza lotti più grandi di diamanti in un unico ciclo, massimizzando la produzione.
  • Eccezionale qualità dei diamanti: Produzione di diamanti con durezza e resistenza superiori a quelle dei diamanti naturali, per garantire durata e prestazioni superiori.
  • Diverse opzioni di colore: Creazione di diamanti in una varietà di colori, tra cui bianco, giallo, rosa e blu, per soddisfare le diverse richieste del mercato e le preferenze estetiche.
  • Purezza ineguagliabile: Raggiungere livelli di purezza superiori a quelli dei diamanti naturali di tipo II, per ottenere proprietà ottiche eccezionali e l'idoneità ad applicazioni avanzate.
  • Su misura per le vostre esigenze: Beneficiate di una personalizzazione multi-stile. Siamo in grado di adattare i progetti per rispondere a specifiche esigenze di mercato e a configurazioni sperimentali uniche.

La scienza dietro lo scintillio: Tecnologia MPCVD avanzata

La deposizione di vapore chimico al plasma a microonde (MPCVD) è un processo sofisticato in cui una sorgente continua di microonde genera e sostiene un plasma altamente reattivo. Questo plasma è composto da sostanze chimiche reagenti (tipicamente metano e idrogeno) e da catalizzatori essenziali, che vengono poi utilizzati per coltivare nuovi strati di diamante su un substrato con seme di diamante.

La macchina diamantata MPCVD di KINTEK consente un controllo preciso della potenza delle microonde e della temperatura di reazione, eliminando di fatto i problemi comuni ad altri metodi CVD. Ottimizzando il design della camera di reazione e i parametri di processo, si ottiene una scarica di plasma stabile, un fattore cruciale per produrre diamanti monocristallini di alta qualità e di grandi dimensioni.

Applicazioni versatili in tutti i settori

Le proprietà uniche dei diamanti prodotti dalle nostre macchine MPCVD, come l'eccezionale durezza, la rigidità, l'elevata conducibilità termica, la bassa espansione termica, la durezza alle radiazioni e l'inerzia chimica, li rendono preziosi in diversi settori:

  • Industria delle pietre preziose: L'apparecchiatura principale per la coltivazione di gemme di diamante di alta qualità e di grandi dimensioni.
  • Materiali avanzati e semiconduttori: Produzione di pellicole di diamante per diverse applicazioni, tra cui substrati di diamante di grandi dimensioni per l'industria dei semiconduttori e utensili di taglio o perforazione in diamante ad alte prestazioni.
  • Utensili industriali: Sviluppo di rivestimenti diamantati per utensili da taglio, punte da trapano e altre applicazioni industriali in cui l'estrema durezza e durata sono fondamentali.
  • Settore biomedico: Creazione di rivestimenti diamantati biocompatibili e durevoli per impianti medici, come articolazioni artificiali e impianti dentali.
  • Optoelettronica: Produzione di finestre e substrati in diamante per laser ad alta potenza, rivelatori e altri dispositivi optoelettronici in cui l'alta conducibilità termica e la bassa espansione termica sono fondamentali.

Specifiche tecniche

Sistema a microonde (in base all'alimentazione opzionale)

  • Frequenza operativa: 915±15MHz
  • Potenza di uscita: 3-75kW regolabile in continuo
  • Flusso d'acqua di raffreddamento: 120/min
  • Coefficiente dell'onda stazionaria del sistema: VSWR≤1.5
  • Perdita di microonde:

Sistema a vuoto e camera di reazione

  • Tasso di perdita
  • La pressione finale è inferiore a 0,7Pa (questa macchina viene fornita con un vuotometro Pirani importato).
  • L'aumento di pressione nella cavità non deve superare i 50Pa dopo 12 ore di mantenimento della pressione.
  • Modalità di lavoro della camera di reazione: Modalità TM021 o TM023
  • Tipo di cavità: cavità cilindrica raffreddata, in grado di trasportare una potenza fino a 75KW, elevata purezza, tenuta ad anello in pietra.
  • Metodo di ingresso: Ingresso dalla testa dell'irrigatore superiore.
  • Finestra di misurazione della temperatura di osservazione: 8 fori di osservazione, uniformemente distribuiti in orizzontale.
  • Porta di campionamento: porta di campionamento a sollevamento inferiore

Sistema di supporto del campione

  • Diametro dello stadio del campione ≥200 mm, area di utilizzo effettiva del cristallo singolo ≥130 mm, l'area di utilizzo effettiva del policristallino è ≥200 mm. Struttura a sandwich raffreddata ad acqua della piattaforma del substrato, verticale dritta su e giù.

Sistema del gas

  • Piastra di gas saldata in metallo pieno 5-7 linee di gas
  • Tutti i circuiti d'aria interni dell'apparecchiatura utilizzano connettori a saldare o VCR.

Raffreddamento del sistema

  • Raffreddamento ad acqua a 3 vie, monitoraggio in tempo reale della temperatura e del flusso.
  • Flusso d'acqua di raffreddamento del sistema 120L/min, pressione dell'acqua di raffreddamento

Metodo di misurazione della temperatura

  • Termometro esterno a infrarossi, intervallo di temperatura 3001400 M

SL901A Elenco dei componenti chiave dell'apparecchiatura

Numero di serie Nome del modulo Osservazione
1 Alimentazione a microonde Magnetron domestico standard: Yingjie Electric / Alimentazione distinta Sorgente a stato solido domestica: Watson (+30.000) Magnetron importato: MKS/Pastorale (+100.000)
2 Guida d'onda, tre pin, convertitore di modalità, risonatore superiore Autocostruito
3 Camera di reazione sotto vuoto (camera superiore, camera inferiore, connettori) Autocostruito
4 Termometri a infrarossi, componenti ottici di spostamento, staffe Termometri a infrarossi, componenti ottici di spostamento, staffe Fuji Gold Siemens + Schneider
5 Raffreddamento ad acqua dei componenti di movimento del tavolo (cilindri, pezzi, ecc.)
6 Vacuometro a film sottile in ceramica, vacuometro Pirani Inficon
7 Componenti per valvole a vuoto (valvola a saracinesca ad altissimo vuoto, valvola pneumatica di precisione*2, valvola differenziale a carica elettromagnetica a vuoto) Fujikin + Zhongke + Himat
8 Pompa per vuoto e raccordi per tubi di collegamento, tee, soffietto KF25*2, adattatore Pompa: Flyover 16L
9 Anello di tenuta a microonde in metallo*2; anello di tenuta a vuoto in metallo*1; piastra di quarzo Quarzo: Shanghai FeilihuaSemiconductor Grade High Purity Quartz (quarzo ad alta purezza)
10 Componenti per l'acqua di circolazione (giunti, blocchi deviatori, rilevatori di flusso) Giapponese SMC/CKD
11 Parte pneumatica (filtro CKD, elettrovalvola airtac a più vie, raccordi e adattatori)
12 Connettore gas, tubo gas EP, connettore VCR, filtro 0,0023μm *1, filtro 10μm*2 Fujikin
13 Involucro della macchina, tavolo in acciaio inox, ruote universali, piedini, viti di fissaggio delle staffe, ecc. lavorazione personalizzata
14 Misuratore di portata del gas*6 (incluso un controllo di pressione) Standard a sette stelle, opzionale Fuji Gold ( +34.000 ) / Alicat (42.000)
15 Elaborazione della piastra del gas (gas a 5 vie, filtro*5, valvola pneumatica*5, valvola manuale*6, saldatura della tubazione) Fuji Gold
16 Controllo automatico PLC Siemens + Schneider
17 Tavolo per molibdeno

Collaborate con KINTEK per le vostre esigenze di materiali avanzati

Grazie a un'eccezionale attività di ricerca e sviluppo e alla produzione interna, KINTEK è specializzata in soluzioni avanzate di forni ad alta temperatura come la macchina diamantata MPCVD. Siamo orgogliosi della nostra profonda capacità di personalizzazione, che ci permette di garantire che i nostri sistemi, compresa questa apparecchiatura avanzata per la sintesi del diamante, soddisfino con precisione i vostri requisiti sperimentali e produttivi.

Siete pronti a migliorare la vostra sintesi del diamante? La macchina diamantata MPCVD di KINTEK offre precisione ed efficienza senza pari. Contattateci oggi stesso per discutere i vostri requisiti specifici e scoprire come la nostra tecnologia può migliorare le vostre operazioni. Compilate il modulo sottostante o clicca qui per iniziare e richiedere un preventivo o una consulenza!

Fidato dai Leader del Settore

I Nostri Clienti Partner

FAQ

Qual è Il Principio Di Una Macchina MPCVD?

Una macchina MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) funziona utilizzando un generatore di microonde per produrre plasma ionizzando una miscela di gas. Questo plasma è alloggiato in una camera di reazione a bassa pressione, dove il substrato è tenuto in posizione da un supporto. I componenti principali sono il generatore di microonde, la camera del plasma, il sistema di erogazione del gas, il supporto del substrato e il sistema di vuoto.

Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Una Macchina MPCVD?

Le macchine MPCVD offrono diversi vantaggi: eliminano la contaminazione da fili caldi (scarica non polare), consentono l'uso di più gas, forniscono un controllo stabile della temperatura di reazione, permettono di ottenere una scarica di plasma stabile su grandi superfici e offrono un controllo preciso dello spessore del film, della purezza e della qualità del cristallo. Inoltre, producono film di diamante ad ampia superficie, garantiscono condizioni stabili, mantengono costante la qualità del campione e sono economicamente vantaggiosi.

Quali Sono Le Applicazioni Principali Delle Macchine MPCVD?

Le macchine MPCVD sono utilizzate principalmente per la sintesi di diamante di elevata purezza coltivato in laboratorio, compresi i film di diamante e altri materiali avanzati. Le loro applicazioni si estendono alla ricerca sui semiconduttori, all'ottica e ai MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems) grazie alla capacità di produrre film omogenei di alta qualità con un controllo preciso.

Quali Sono I Componenti Principali Di Una Macchina MPCVD?

I componenti principali di una macchina MPCVD comprendono un generatore di microonde (per produrre il plasma), una camera di reazione (per ospitare il substrato e la miscela di gas a bassa pressione), un supporto per il substrato (per tenere il substrato durante la deposizione), un sistema di erogazione del gas (per introdurre e controllare la miscela di gas) e un sistema di vuoto (per mantenere il necessario ambiente a bassa pressione).

Come Fa Una Macchina MPCVD A Migliorare L'efficienza Energetica?

Una macchina MPCVD migliora l'efficienza energetica grazie al processo senza elettrodi, che riduce la contaminazione e la perdita di energia. La generazione di plasma a microonde è altamente efficiente e il design modulare e scalabile del sistema consente di ottimizzare l'uso dell'energia in diverse applicazioni industriali.

Perché L'MPCVD è Preferito Per La Crescita Del Diamante?

L'MPCVD è preferito per la crescita del diamante perché fornisce un'alta densità di particelle cariche e di specie reattive, consente la deposizione di film di diamante di grande superficie a pressioni più basse e garantisce una migliore omogeneità nei film cresciuti. Queste caratteristiche consentono di ottenere diamanti di elevata purezza e qualità, con un controllo preciso delle loro proprietà.
Visualizza altre domande frequenti per questo prodotto

Scheda Tecnica del Prodotto

915MHz MPCVD Diamond Machine Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition System Reactor

Catalogo delle Categorie

Mpcvd


RICHIEDI UN PREVENTIVO

Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!

Prodotti correlati

Sistema di macchine MPCVD a risonatore cilindrico per la crescita del diamante in laboratorio

Sistema di macchine MPCVD a risonatore cilindrico per la crescita del diamante in laboratorio

Sistemi MPCVD KINTEK: Crescita precisa di film di diamante di alta qualità. Affidabili, efficienti dal punto di vista energetico e adatti ai principianti. Assistenza di esperti disponibile.

Vedi dettagli
Sistema di macchine MPCVD Reattore a campana con risonatore per laboratorio e crescita del diamante

Sistema di macchine MPCVD Reattore a campana con risonatore per laboratorio e crescita del diamante

Sistemi MPCVD KINTEK: Macchine per la crescita di diamanti di precisione per diamanti di laboratorio di elevata purezza. Affidabili, efficienti e personalizzabili per la ricerca e l'industria.

Vedi dettagli
Attrezzatura di sistema della macchina HFCVD per il rivestimento del diamante nano della matrice di disegno

Attrezzatura di sistema della macchina HFCVD per il rivestimento del diamante nano della matrice di disegno

Il sistema HFCVD di KINTEK fornisce rivestimenti di nano-diamante di alta qualità per gli stampi di trafilatura, migliorando la durata con una durezza e una resistenza all'usura superiori. Esplorate ora le soluzioni di precisione!

Vedi dettagli
Multi zone di riscaldamento CVD tubo forno macchina per attrezzature di deposizione di vapore chimico

Multi zone di riscaldamento CVD tubo forno macchina per attrezzature di deposizione di vapore chimico

I forni tubolari CVD a più zone di KINTEK offrono un controllo preciso della temperatura per la deposizione avanzata di film sottili. Ideali per la ricerca e la produzione, sono personalizzabili in base alle esigenze del vostro laboratorio.

Vedi dettagli
Forno tubolare rotativo inclinato per deposizione chimica da vapore assistita da plasma (PECVD)

Forno tubolare rotativo inclinato per deposizione chimica da vapore assistita da plasma (PECVD)

Forno tubolare PECVD avanzato per la deposizione precisa di film sottili. Riscaldamento uniforme, sorgente plasma RF, controllo gas personalizzabile. Ideale per la ricerca sui semiconduttori.

Vedi dettagli
Forno a Tubo PECVD Inclinato e Rotante per Deposizione Chimica da Vapore Potenziata al Plasma

Forno a Tubo PECVD Inclinato e Rotante per Deposizione Chimica da Vapore Potenziata al Plasma

La macchina per rivestimenti PECVD di KINTEK produce film sottili di precisione a basse temperature per LED, celle solari e MEMS. Soluzioni personalizzabili e ad alte prestazioni.

Vedi dettagli
Forno a Tubo PECVD a Scorrimento con Gassificatore di Liquidi Macchina PECVD

Forno a Tubo PECVD a Scorrimento con Gassificatore di Liquidi Macchina PECVD

Forno a tubo PECVD a scorrimento KINTEK: deposizione di film sottili di precisione con plasma RF, cicli termici rapidi e controllo dei gas personalizzabile. Ideale per semiconduttori e celle solari.

Vedi dettagli
Macchina versatile su misura dell'attrezzatura di deposizione di vapore chimica del forno della metropolitana di CVD

Macchina versatile su misura dell'attrezzatura di deposizione di vapore chimica del forno della metropolitana di CVD

Il forno tubolare CVD di KINTEK offre un controllo preciso della temperatura fino a 1600°C, ideale per la deposizione di film sottili. Personalizzabile per esigenze di ricerca e industriali.

Vedi dettagli
Forno tubolare CVD a camera split con macchina CVD a stazione sottovuoto

Forno tubolare CVD a camera split con macchina CVD a stazione sottovuoto

Forno tubolare CVD a camera split con stazione del vuoto - Forno da laboratorio ad alta precisione a 1200°C per la ricerca sui materiali avanzati. Sono disponibili soluzioni personalizzabili.

Vedi dettagli
Sistema RF PECVD Deposizione di vapore chimico potenziata al plasma a radiofrequenza

Sistema RF PECVD Deposizione di vapore chimico potenziata al plasma a radiofrequenza

Sistema PECVD RF KINTEK: Deposizione di precisione di film sottili per semiconduttori, ottica e MEMS. Processo automatizzato a bassa temperatura con film di qualità superiore. Sono disponibili soluzioni personalizzate.

Vedi dettagli
Macchina per la laminazione e il riscaldamento della pressa a caldo sottovuoto

Macchina per la laminazione e il riscaldamento della pressa a caldo sottovuoto

Pressa per laminazione sottovuoto KINTEK: Incollaggio di precisione per applicazioni su wafer, film sottili e LCP. Temperatura massima di 500°C, pressione di 20 tonnellate, certificazione CE. Soluzioni personalizzate disponibili.

Vedi dettagli

Articoli correlati

Confronto tra i metodi di sintesi del diamante CVD per applicazioni industriali

Confronto tra i metodi di sintesi del diamante CVD per applicazioni industriali

Confronta i metodi di sintesi del diamante CVD (HFCVD, DC Plasma Arc Jet, MPCVD) per costo, qualità e applicazioni industriali come utensili, ottica e tecnologia quantistica.

Scopri di più
Perché i risultati della tua sintesi ad alta temperatura sono inaffidabili—E come risolverli

Perché i risultati della tua sintesi ad alta temperatura sono inaffidabili—E come risolverli

Lotti con risultati incoerenti nella sintesi dei materiali, CVD o ricottura? Scopri che la causa nascosta del fallimento è l'ambiente del tuo forno, non il tuo processo.

Scopri di più
Risolvere il dilemma dell'incollaggio: perché le leghe ad alta resistenza necessitano di più della semplice pressione

Risolvere il dilemma dell'incollaggio: perché le leghe ad alta resistenza necessitano di più della semplice pressione

Scopri come gli strati intermedi in lamina metallica multistrato risolvono i problemi di deformazione nella saldatura a diffusione delle leghe ODS, garantendo l'integrità a livello atomico a pressioni inferiori.

Scopri di più
Perché il tuo grafene derivato da biomassa manca di uniformità — e il segreto termico per risolverlo

Perché il tuo grafene derivato da biomassa manca di uniformità — e il segreto termico per risolverlo

Hai difficoltà con il grafene decorato con argento incoerente? Scopri come i reattori APCVD e i forni a vuoto in SiC garantiscono una distribuzione uniforme delle nanoparticelle e una sintesi di alta qualità.

Scopri di più
Perché le vostre leghe superelastiche non offrono le prestazioni attese — e come la precisione allo stato solido risolve il problema

Perché le vostre leghe superelastiche non offrono le prestazioni attese — e come la precisione allo stato solido risolve il problema

Scoprite perché la fusione tradizionale fallisce con le leghe superelastiche Ti-Ni-X e come la sinterizzazione al plasma a scintilla (SPS) offra un controllo preciso della composizione e una microstruttura fine.

Scopri di più
Perché la sintesi delle polveri composite fallisce alle alte temperature—e come stabilizzare l'"onda di combustione"

Perché la sintesi delle polveri composite fallisce alle alte temperature—e come stabilizzare l'"onda di combustione"

Scopri come i reattori SHS ad alta pressione risolvono la volatilizzazione e l'incoerenza nella sintesi delle polveri di ZrSi2–MoSi2–ZrB2 attraverso la riduzione magnesiotermica controllata.

Scopri di più
Il Cuore Freddo del Forno: Padroneggiare la Desublimazione nel Recupero del Magnesio

Il Cuore Freddo del Forno: Padroneggiare la Desublimazione nel Recupero del Magnesio

Uno sguardo alla fisica e ai compromessi ingegneristici dei cristallizzatori a condensazione, la chiave per la purezza e la resa nel recupero del vapore di magnesio.

Scopri di più

Tag popolari