Prodotti High Temperature Furnaces MPCVD 915MHz MPCVD Diamond Machine Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition System Reactor
915MHz MPCVD Diamond Machine Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition System Reactor

MPCVD

915MHz MPCVD Diamond Machine Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition System Reactor

Numero articolo : MP-CVD-101

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Potenza di uscita
3-75kW regolabile in continuo
Diametro dello stadio campione
≥200 mm
Frequenza operativa
915±15MHz
ISO & CE icon

Spedizione:

Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.

Preventivo

Macchina diamantata MPCVD KINTEK: Rivoluzionare la sintesi del diamante

La macchina per diamanti MPCVD di KINTEK sfrutta la deposizione di vapore chimico al plasma a microonde (MPCVD) per sintetizzare diamanti di alta qualità con velocità e precisione senza precedenti. Questa tecnologia avanzata consente una crescita più rapida dei cristalli, una maggiore capacità produttiva e una migliore qualità dei diamanti rispetto ai metodi tradizionali.

Panoramica e componenti chiave

Dettagli MPCVD

Dettagli MPCVD

Sbloccare una produzione di diamanti superiore con KINTEK

La nostra macchina diamantata MPCVD offre vantaggi significativi per le vostre esigenze di sintesi del diamante:

  • Crescita accelerata dei cristalli: Raggiunge velocità di crescita da 10 a 100 volte superiori rispetto ai metodi tradizionali, aumentando in modo significativo l'efficienza della produzione.
  • Maggiore capacità produttiva: Sintetizza lotti più grandi di diamanti in un unico ciclo, massimizzando la produzione.
  • Eccezionale qualità dei diamanti: Produzione di diamanti con durezza e resistenza superiori a quelle dei diamanti naturali, per garantire durata e prestazioni superiori.
  • Diverse opzioni di colore: Creazione di diamanti in una varietà di colori, tra cui bianco, giallo, rosa e blu, per soddisfare le diverse richieste del mercato e le preferenze estetiche.
  • Purezza ineguagliabile: Raggiungere livelli di purezza superiori a quelli dei diamanti naturali di tipo II, per ottenere proprietà ottiche eccezionali e l'idoneità ad applicazioni avanzate.
  • Su misura per le vostre esigenze: Beneficiate di una personalizzazione multi-stile. Siamo in grado di adattare i progetti per rispondere a specifiche esigenze di mercato e a configurazioni sperimentali uniche.

La scienza dietro lo scintillio: Tecnologia MPCVD avanzata

La deposizione di vapore chimico al plasma a microonde (MPCVD) è un processo sofisticato in cui una sorgente continua di microonde genera e sostiene un plasma altamente reattivo. Questo plasma è composto da sostanze chimiche reagenti (tipicamente metano e idrogeno) e da catalizzatori essenziali, che vengono poi utilizzati per coltivare nuovi strati di diamante su un substrato con seme di diamante.

La macchina diamantata MPCVD di KINTEK consente un controllo preciso della potenza delle microonde e della temperatura di reazione, eliminando di fatto i problemi comuni ad altri metodi CVD. Ottimizzando il design della camera di reazione e i parametri di processo, si ottiene una scarica di plasma stabile, un fattore cruciale per produrre diamanti monocristallini di alta qualità e di grandi dimensioni.

Applicazioni versatili in tutti i settori

Le proprietà uniche dei diamanti prodotti dalle nostre macchine MPCVD, come l'eccezionale durezza, la rigidità, l'elevata conducibilità termica, la bassa espansione termica, la durezza alle radiazioni e l'inerzia chimica, li rendono preziosi in diversi settori:

  • Industria delle pietre preziose: L'apparecchiatura principale per la coltivazione di gemme di diamante di alta qualità e di grandi dimensioni.
  • Materiali avanzati e semiconduttori: Produzione di pellicole di diamante per diverse applicazioni, tra cui substrati di diamante di grandi dimensioni per l'industria dei semiconduttori e utensili di taglio o perforazione in diamante ad alte prestazioni.
  • Utensili industriali: Sviluppo di rivestimenti diamantati per utensili da taglio, punte da trapano e altre applicazioni industriali in cui l'estrema durezza e durata sono fondamentali.
  • Settore biomedico: Creazione di rivestimenti diamantati biocompatibili e durevoli per impianti medici, come articolazioni artificiali e impianti dentali.
  • Optoelettronica: Produzione di finestre e substrati in diamante per laser ad alta potenza, rivelatori e altri dispositivi optoelettronici in cui l'alta conducibilità termica e la bassa espansione termica sono fondamentali.

Specifiche tecniche

Sistema a microonde (in base all'alimentazione opzionale)

  • Frequenza operativa: 915±15MHz
  • Potenza di uscita: 3-75kW regolabile in continuo
  • Flusso d'acqua di raffreddamento: 120/min
  • Coefficiente dell'onda stazionaria del sistema: VSWR≤1.5
  • Perdita di microonde:

Sistema a vuoto e camera di reazione

  • Tasso di perdita
  • La pressione finale è inferiore a 0,7Pa (questa macchina viene fornita con un vuotometro Pirani importato).
  • L'aumento di pressione nella cavità non deve superare i 50Pa dopo 12 ore di mantenimento della pressione.
  • Modalità di lavoro della camera di reazione: Modalità TM021 o TM023
  • Tipo di cavità: cavità cilindrica raffreddata, in grado di trasportare una potenza fino a 75KW, elevata purezza, tenuta ad anello in pietra.
  • Metodo di ingresso: Ingresso dalla testa dell'irrigatore superiore.
  • Finestra di misurazione della temperatura di osservazione: 8 fori di osservazione, uniformemente distribuiti in orizzontale.
  • Porta di campionamento: porta di campionamento a sollevamento inferiore

Sistema di supporto del campione

  • Diametro dello stadio del campione ≥200 mm, area di utilizzo effettiva del cristallo singolo ≥130 mm, l'area di utilizzo effettiva del policristallino è ≥200 mm. Struttura a sandwich raffreddata ad acqua della piattaforma del substrato, verticale dritta su e giù.

Sistema del gas

  • Piastra di gas saldata in metallo pieno 5-7 linee di gas
  • Tutti i circuiti d'aria interni dell'apparecchiatura utilizzano connettori a saldare o VCR.

Raffreddamento del sistema

  • Raffreddamento ad acqua a 3 vie, monitoraggio in tempo reale della temperatura e del flusso.
  • Flusso d'acqua di raffreddamento del sistema 120L/min, pressione dell'acqua di raffreddamento

Metodo di misurazione della temperatura

  • Termometro esterno a infrarossi, intervallo di temperatura 3001400 M

SL901A Elenco dei componenti chiave dell'apparecchiatura

Numero di serie Nome del modulo Osservazione
1 Alimentazione a microonde Magnetron domestico standard: Yingjie Electric / Alimentazione distinta Sorgente a stato solido domestica: Watson (+30.000) Magnetron importato: MKS/Pastorale (+100.000)
2 Guida d'onda, tre pin, convertitore di modalità, risonatore superiore Autocostruito
3 Camera di reazione sotto vuoto (camera superiore, camera inferiore, connettori) Autocostruito
4 Termometri a infrarossi, componenti ottici di spostamento, staffe Termometri a infrarossi, componenti ottici di spostamento, staffe Fuji Gold Siemens + Schneider
5 Raffreddamento ad acqua dei componenti di movimento del tavolo (cilindri, pezzi, ecc.)
6 Vacuometro a film sottile in ceramica, vacuometro Pirani Inficon
7 Componenti per valvole a vuoto (valvola a saracinesca ad altissimo vuoto, valvola pneumatica di precisione*2, valvola differenziale a carica elettromagnetica a vuoto) Fujikin + Zhongke + Himat
8 Pompa per vuoto e raccordi per tubi di collegamento, tee, soffietto KF25*2, adattatore Pompa: Flyover 16L
9 Anello di tenuta a microonde in metallo*2; anello di tenuta a vuoto in metallo*1; piastra di quarzo Quarzo: Shanghai FeilihuaSemiconductor Grade High Purity Quartz (quarzo ad alta purezza)
10 Componenti per l'acqua di circolazione (giunti, blocchi deviatori, rilevatori di flusso) Giapponese SMC/CKD
11 Parte pneumatica (filtro CKD, elettrovalvola airtac a più vie, raccordi e adattatori)
12 Connettore gas, tubo gas EP, connettore VCR, filtro 0,0023μm *1, filtro 10μm*2 Fujikin
13 Involucro della macchina, tavolo in acciaio inox, ruote universali, piedini, viti di fissaggio delle staffe, ecc. lavorazione personalizzata
14 Misuratore di portata del gas*6 (incluso un controllo di pressione) Standard a sette stelle, opzionale Fuji Gold ( +34.000 ) / Alicat (42.000)
15 Elaborazione della piastra del gas (gas a 5 vie, filtro*5, valvola pneumatica*5, valvola manuale*6, saldatura della tubazione) Fuji Gold
16 Controllo automatico PLC Siemens + Schneider
17 Tavolo per molibdeno

Collaborate con KINTEK per le vostre esigenze di materiali avanzati

Grazie a un'eccezionale attività di ricerca e sviluppo e alla produzione interna, KINTEK è specializzata in soluzioni avanzate di forni ad alta temperatura come la macchina diamantata MPCVD. Siamo orgogliosi della nostra profonda capacità di personalizzazione, che ci permette di garantire che i nostri sistemi, compresa questa apparecchiatura avanzata per la sintesi del diamante, soddisfino con precisione i vostri requisiti sperimentali e produttivi.

Siete pronti a migliorare la vostra sintesi del diamante? La macchina diamantata MPCVD di KINTEK offre precisione ed efficienza senza pari. Contattateci oggi stesso per discutere i vostri requisiti specifici e scoprire come la nostra tecnologia può migliorare le vostre operazioni. Compilate il modulo sottostante o clicca qui per iniziare e richiedere un preventivo o una consulenza!

FAQ

Qual è Il Principio Di Una Macchina MPCVD?

Una macchina MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) funziona utilizzando un generatore di microonde per produrre plasma ionizzando una miscela di gas. Questo plasma è alloggiato in una camera di reazione a bassa pressione, dove il substrato è tenuto in posizione da un supporto. I componenti principali sono il generatore di microonde, la camera del plasma, il sistema di erogazione del gas, il supporto del substrato e il sistema di vuoto.

Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Una Macchina MPCVD?

Le macchine MPCVD offrono diversi vantaggi: eliminano la contaminazione da fili caldi (scarica non polare), consentono l'uso di più gas, forniscono un controllo stabile della temperatura di reazione, permettono di ottenere una scarica di plasma stabile su grandi superfici e offrono un controllo preciso dello spessore del film, della purezza e della qualità del cristallo. Inoltre, producono film di diamante ad ampia superficie, garantiscono condizioni stabili, mantengono costante la qualità del campione e sono economicamente vantaggiosi.

Quali Sono Le Applicazioni Principali Delle Macchine MPCVD?

Le macchine MPCVD sono utilizzate principalmente per la sintesi di diamante di elevata purezza coltivato in laboratorio, compresi i film di diamante e altri materiali avanzati. Le loro applicazioni si estendono alla ricerca sui semiconduttori, all'ottica e ai MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems) grazie alla capacità di produrre film omogenei di alta qualità con un controllo preciso.

Quali Sono I Componenti Principali Di Una Macchina MPCVD?

I componenti principali di una macchina MPCVD comprendono un generatore di microonde (per produrre il plasma), una camera di reazione (per ospitare il substrato e la miscela di gas a bassa pressione), un supporto per il substrato (per tenere il substrato durante la deposizione), un sistema di erogazione del gas (per introdurre e controllare la miscela di gas) e un sistema di vuoto (per mantenere il necessario ambiente a bassa pressione).

Come Fa Una Macchina MPCVD A Migliorare L'efficienza Energetica?

Una macchina MPCVD migliora l'efficienza energetica grazie al processo senza elettrodi, che riduce la contaminazione e la perdita di energia. La generazione di plasma a microonde è altamente efficiente e il design modulare e scalabile del sistema consente di ottimizzare l'uso dell'energia in diverse applicazioni industriali.

Perché L'MPCVD è Preferito Per La Crescita Del Diamante?

L'MPCVD è preferito per la crescita del diamante perché fornisce un'alta densità di particelle cariche e di specie reattive, consente la deposizione di film di diamante di grande superficie a pressioni più basse e garantisce una migliore omogeneità nei film cresciuti. Queste caratteristiche consentono di ottenere diamanti di elevata purezza e qualità, con un controllo preciso delle loro proprietà.
Visualizza altre domande frequenti per questo prodotto

4.8

out of

5

Incredible precision and speed! This machine delivers flawless diamond deposition every time. Worth every penny!

Elara Voss

4.9

out of

5

The quality is unmatched. Our lab's efficiency has skyrocketed since we got this reactor. Highly recommend!

Rafael Mendoza

4.7

out of

5

Fast delivery and easy setup. The technological advancement in this system is mind-blowing. Love it!

Sienna Khatri

4.8

out of

5

Durability is top-notch. This machine handles continuous use without a hitch. A game-changer for our research!

Nikolai Petrov

4.9

out of

5

The value for money is exceptional. The results are consistently high-quality. Couldn't be happier!

Aiko Tanaka

4.7

out of

5

Superb performance! The 915MHz frequency makes all the difference. Our experiments have never been smoother.

Lucien Dubois

4.8

out of

5

This reactor is a beast! The diamond deposition is faster and more efficient than anything we've used before.

Zara Al-Mansoor

4.9

out of

5

The build quality is outstanding. It's clear this was designed with cutting-edge technology. Impressive!

Mateo Silva

4.7

out of

5

Reliable and efficient. This machine has exceeded all our expectations. A must-have for any serious lab.

Anya Kovalenko

4.8

out of

5

The speed of delivery was impressive. The machine works flawlessly right out of the box. Perfect!

Kai Zhang

4.9

out of

5

This reactor is a dream come true. The diamond quality is pristine, and the process is so streamlined. Love it!

Isabella Moretti

4.7

out of

5

Top-tier technology at an affordable price. This machine has revolutionized our workflow. Absolutely stellar!

Javier Rios

Prodotti

915MHz MPCVD Diamond Machine Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition System Reactor

PDF Formato Catalogo
Scarica

Categoria

Mpcvd

PDF Formato Catalogo
Scarica

RICHIEDI UN PREVENTIVO

Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!

Prodotti correlati

Sistema di macchine MPCVD a risonatore cilindrico per la crescita del diamante in laboratorio

Sistema di macchine MPCVD a risonatore cilindrico per la crescita del diamante in laboratorio

Sistemi MPCVD KINTEK: Crescita precisa di film di diamante di alta qualità. Affidabili, efficienti dal punto di vista energetico e adatti ai principianti. Assistenza di esperti disponibile.

Forno di sinterizzazione al plasma di scintilla SPS

Forno di sinterizzazione al plasma di scintilla SPS

Scoprite l'avanzato forno di sinterizzazione al plasma di scintilla (SPS) di KINTEK per una lavorazione rapida e precisa dei materiali. Soluzioni personalizzabili per la ricerca e la produzione.

Sistema RF PECVD Deposizione di vapore chimico potenziata al plasma a radiofrequenza

Sistema RF PECVD Deposizione di vapore chimico potenziata al plasma a radiofrequenza

Sistema PECVD RF KINTEK: Deposizione di precisione di film sottili per semiconduttori, ottica e MEMS. Processo automatizzato a bassa temperatura con film di qualità superiore. Sono disponibili soluzioni personalizzate.

Forno a tubo PECVD a scorrimento con gassificatore liquido Macchina PECVD

Forno a tubo PECVD a scorrimento con gassificatore liquido Macchina PECVD

Forno a tubo PECVD KINTEK Slide: deposizione di precisione di film sottili con plasma RF, cicli termici rapidi e controllo del gas personalizzabile. Ideale per semiconduttori e celle solari.

Macchina rotante inclinata del forno a tubo PECVD della deposizione chimica potenziata dal plasma

Macchina rotante inclinata del forno a tubo PECVD della deposizione chimica potenziata dal plasma

La macchina di rivestimento PECVD di KINTEK produce film sottili di precisione a basse temperature per LED, celle solari e MEMS. Soluzioni personalizzabili e ad alte prestazioni.

Cavo di alimentazione con flangia del connettore passante per elettrodi ultravuoto per applicazioni di alta precisione

Cavo di alimentazione con flangia del connettore passante per elettrodi ultravuoto per applicazioni di alta precisione

Passanti per elettrodi ultravuoto per connessioni UHV affidabili. Opzioni di flangia ad alta tenuta e personalizzabili, ideali per semiconduttori e applicazioni spaziali.

Macchina elettrica della pianta della fornace di pirolisi del forno rotante Piccolo calcolatore del forno rotante

Macchina elettrica della pianta della fornace di pirolisi del forno rotante Piccolo calcolatore del forno rotante

Forno rotante elettrico KINTEK: Calcinazione, pirolisi ed essiccazione precise a 1100℃. Riscaldamento ecologico e multizona, personalizzabile per esigenze di laboratorio e industriali.

Macchina per la laminazione e il riscaldamento della pressa a caldo sottovuoto

Macchina per la laminazione e il riscaldamento della pressa a caldo sottovuoto

Pressa per laminazione sottovuoto KINTEK: Incollaggio di precisione per applicazioni su wafer, film sottili e LCP. Temperatura massima di 500°C, pressione di 20 tonnellate, certificazione CE. Soluzioni personalizzate disponibili.

Forno ad atmosfera inerte controllata con azoto da 1200℃

Forno ad atmosfera inerte controllata con azoto da 1200℃

Forno ad atmosfera controllata KINTEK 1200℃: riscaldamento di precisione con controllo del gas per laboratori. Ideale per sinterizzazione, ricottura e ricerca sui materiali. Sono disponibili dimensioni personalizzabili.

Forno ad atmosfera inerte controllata con azoto da 1400℃

Forno ad atmosfera inerte controllata con azoto da 1400℃

Forno ad atmosfera controllata KT-14A per laboratori e industria. Temperatura massima di 1400°C, tenuta sotto vuoto, controllo del gas inerte. Sono disponibili soluzioni personalizzabili.

1700℃ Forno ad atmosfera inerte controllata con azoto

1700℃ Forno ad atmosfera inerte controllata con azoto

Forno ad atmosfera controllata KT-17A: riscaldamento preciso a 1700°C con controllo del vuoto e del gas. Ideale per la sinterizzazione, la ricerca e la lavorazione dei materiali. Esplora ora!

1200℃ Forno a tubo diviso Forno a tubo di quarzo da laboratorio con tubo di quarzo

1200℃ Forno a tubo diviso Forno a tubo di quarzo da laboratorio con tubo di quarzo

Scoprite il forno a tubo diviso da 1200℃ di KINTEK con tubo al quarzo per applicazioni di laboratorio precise ad alta temperatura. Personalizzabile, resistente ed efficiente. Acquistate subito il vostro!

2200 ℃ Forno per il trattamento termico e la sinterizzazione sotto vuoto del tungsteno

2200 ℃ Forno per il trattamento termico e la sinterizzazione sotto vuoto del tungsteno

Forno a vuoto a 2200°C in tungsteno per la lavorazione di materiali ad alta temperatura. Controllo preciso, vuoto superiore, soluzioni personalizzabili. Ideale per la ricerca e le applicazioni industriali.

Macchina rotante inclinata del forno a tubo PECVD della deposizione chimica potenziata dal plasma

Macchina rotante inclinata del forno a tubo PECVD della deposizione chimica potenziata dal plasma

Forno a tubo PECVD avanzato per la deposizione precisa di film sottili. Riscaldamento uniforme, sorgente di plasma RF, controllo del gas personalizzabile. Ideale per la ricerca sui semiconduttori.

Forno a muffola da 1200℃ per laboratorio

Forno a muffola da 1200℃ per laboratorio

Forno a muffola KINTEK KT-12M: riscaldamento di precisione a 1200°C con controllo PID. Ideale per i laboratori che necessitano di un calore rapido e uniforme. Esplora i modelli e le opzioni di personalizzazione.

1800℃ Forno a muffola ad alta temperatura per laboratorio

1800℃ Forno a muffola ad alta temperatura per laboratorio

Forni a muffola KINTEK: Riscaldamento di precisione a 1800°C per i laboratori. Efficienti dal punto di vista energetico, personalizzabili e con controllo PID. Ideale per sinterizzazione, ricottura e ricerca.

1400℃ Forno tubolare da laboratorio ad alta temperatura con tubo in quarzo e allumina

1400℃ Forno tubolare da laboratorio ad alta temperatura con tubo in quarzo e allumina

Forno tubolare KINTEK con tubo in allumina: Lavorazione di precisione ad alta temperatura fino a 2000°C per i laboratori. Ideale per sintesi di materiali, CVD e sinterizzazione. Sono disponibili opzioni personalizzabili.

1700℃ Forno a muffola ad alta temperatura per laboratorio

1700℃ Forno a muffola ad alta temperatura per laboratorio

Forno a muffola KT-17M: forno da laboratorio ad alta precisione a 1700°C con controllo PID, efficienza energetica e dimensioni personalizzabili per applicazioni industriali e di ricerca.

Forno a muffola da 1400℃ per laboratorio

Forno a muffola da 1400℃ per laboratorio

Forno a muffola KT-14M: riscaldamento di precisione a 1400°C con elementi SiC, controllo PID e design ad alta efficienza energetica. Ideale per i laboratori.

Tag popolari