Forno CVD & PECVD
Forno tubolare CVD a camera split con macchina CVD a stazione sottovuoto
Numero articolo : KT-CTF12
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Temperatura massima
- 1200℃
- Diametro del tubo del forno
- 60 mm
- Velocità di riscaldamento
- 0-20℃/min
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Dettaglio&Particolari
Introduzione
Facendo leva su un'eccezionale attività di ricerca e sviluppo e sulla produzione interna, KINTEK offre soluzioni avanzate di forni ad alta temperatura, adatte alle diverse esigenze dei laboratori. Il Forno tubolare CVD a camera divisa con stazione da vuoto ne è un esempio, offrendo un sistema versatile e ad alte prestazioni, meticolosamente progettato per le applicazioni di deposizione chimica da vapore (CVD) più esigenti.
Questo forno è stato progettato per garantire precisione e facilità d'uso. Tra le caratteristiche principali che favoriscono la vostra ricerca vi sono:
- Camera di cottura divisa: Consente un accesso diretto ai campioni di reazione e facilita il raffreddamento rapido, migliorando significativamente l'efficienza e la produttività degli esperimenti.
- Capacità di alta temperatura: Utilizza un tubo di quarzo ad alta purezza (diametro standard di 60 mm, sono disponibili opzioni personalizzabili) adatto a processi che richiedono temperature fino a 1200°C.
- Controllo preciso del gas: Dotato di un misuratore di portata massica MFC a 4 canali, che fornisce un'erogazione precisa e stabile di gas di partenza come CH4, H2, O2 e N2 per risultati di processo coerenti.
- Stazione del vuoto integrata: Dispone di una robusta pompa per vuoto rotativa a palette da 4L/S, in grado di raggiungere una pressione massima di 10 Pa, garantendo un ambiente ottimale per i vari processi di vuoto.
In KINTEK siamo consapevoli che requisiti sperimentali unici richiedono soluzioni flessibili. La nostra forte capacità di personalizzazione significa che questo sistema è ricco di funzioni avanzate ideali per la scienza dei materiali, la lavorazione dei semiconduttori e la ricerca e sviluppo pionieristica, ma possiamo adattarlo ulteriormente alle vostre esigenze specifiche. La nostra esperienza si estende a una linea di prodotti completa, che comprende forni a muffola, a tubo, rotanti, forni a vuoto e ad atmosfera e sistemi avanzati CVD/PECVD/MPCVD, garantendo la soluzione perfetta per il vostro lavoro.
Siete pronti a migliorare le vostre capacità di ricerca o a discutere una configurazione personalizzata per i vostri processi CVD? Contattate oggi stesso i nostri specialisti per scoprire come il forno tubolare CVD a camera divisa possa essere adattato ai vostri precisi requisiti sperimentali e per richiedere un preventivo.
Applicazioni
Il forno tubolare CVD a camera divisa con macchina CVD a stazione da vuoto è un'apparecchiatura versatile e avanzata, progettata per una varietà di applicazioni nei settori della scienza dei materiali, della produzione di semiconduttori e della ricerca e sviluppo. Questa macchina è particolarmente utile per i processi che richiedono un controllo preciso della temperatura, del flusso di gas e dei livelli di vuoto, rendendola uno strumento essenziale per la sintesi e la lavorazione di materiali di alta qualità.
- Sintesi di nanomateriali: Il forno è ideale per la crescita di nanofili, nanofilm e altri materiali nanostrutturati, fondamentali per lo sviluppo di dispositivi elettronici e optoelettronici avanzati.
- Rivestimento sotto vuoto: È ampiamente utilizzato per la deposizione di film sottili su vari substrati, tra cui film metallici, film ceramici e film compositi, essenziali per migliorare le proprietà dei materiali in applicazioni come l'ottica e l'elettronica.
- Trattamento dei materiali per batterie: Il forno è adatto all'essiccazione e alla sinterizzazione dei materiali per batterie, una fase cruciale nella produzione di batterie ad alte prestazioni.
- Essiccazione e sinterizzazione dei materiali: Viene utilizzato per la sinterizzazione ad alta temperatura di ceramiche, materiali refrattari e materiali speciali, garantendo il consolidamento e la densificazione di questi materiali.
- Trattamento termico in atmosfera e sottovuoto: La configurazione verticale del forno tubolare consente di eseguire tempra, ricottura e rinvenimento di piccole parti in acciaio, nonché di eseguire rivestimenti CVD verticali, rendendolo una risorsa preziosa nei processi metallurgici.
- Ricerca e sviluppo: È ampiamente utilizzato nelle università, negli istituti di ricerca e nelle imprese industriali e minerarie per condurre esperimenti ad alta temperatura, sinterizzazione in atmosfera, atmosfera riducente ed esperimenti CVD/CVI, contribuendo al progresso della scienza e della tecnologia dei materiali.
Caratteristiche
Il forno tubolare CVD a camera divisa con macchina CVD a stazione di vuoto è un'apparecchiatura sofisticata progettata per processi avanzati di deposizione di vapore chimico (CVD). Questo forno integra una tecnologia all'avanguardia per migliorare l'efficienza e la qualità della deposizione di film, rendendolo ideale per la ricerca e le applicazioni industriali. Ecco le caratteristiche principali e i loro vantaggi:
- Alta velocità di deposizione del film: Utilizzando la tecnologia del bagliore a radiofrequenza, questo forno aumenta in modo significativo la velocità di deposizione del film, raggiungendo fino a 10Å/S. Questa rapida deposizione è fondamentale per la produzione e la ricerca ad alto rendimento, per risparmiare tempo e aumentare la produttività.
- Uniformità su vasta area: Grazie all'avanzata tecnologia di alimentazione RF a più punti e alla distribuzione specializzata del percorso del gas, il forno garantisce un'uniformità del film fino all'8%. Questa uniformità è essenziale per creare rivestimenti coerenti e di alta qualità su substrati di grandi dimensioni, migliorando l'affidabilità dei materiali prodotti.
- Deposizione uniforme: Il design incorpora concetti avanzati dell'industria dei semiconduttori, con una deviazione inferiore al 2% tra i substrati. Questo elevato livello di coerenza è fondamentale per le applicazioni che richiedono risultati precisi e ripetibili, come nella produzione di componenti elettronici.
- Controllo stabile del processo: L'elevata stabilità dell'apparecchiatura garantisce la continuità e la coerenza del processo CVD. Questa affidabilità è fondamentale per mantenere l'integrità del processo e ridurre il rischio di difetti o guasti durante il funzionamento.
- Sistema di controllo intelligente: Brevettato da Bonage, il sistema di controllo integrato comprende un sistema di controllo della temperatura ad alte prestazioni che utilizza un meccanismo di feedback negativo ad anello chiuso. Questo sistema, unito a componenti elettrici importati di alta qualità, migliora le prestazioni complessive e l'affidabilità dell'apparecchiatura, rendendola praticamente esente da manutenzione.
- Applicazioni versatili: Adatto a depositare vari tipi di film, tra cui quelli metallici, ceramici e compositi, il forno supporta processi di crescita continua e può essere facilmente ampliato con funzioni aggiuntive come la pulizia e l'incisione al plasma. Questa versatilità lo rende una risorsa preziosa per le diverse esigenze di ricerca e produzione.
Il principio
Il forno tubolare CVD a camera divisa con macchina CVD a stazione sottovuoto è un forno sottovuoto ad alta temperatura utilizzato per i processi di deposizione di vapore chimico (CVD). La CVD è un processo in cui un film sottile di materiale viene depositato su un substrato mediante la reazione chimica di un gas o di un vapore. Il forno tubolare CVD a camera divisa con stazione del vuoto utilizza una camera di forno divisa per consentire un facile accesso al substrato durante il processo CVD. La stazione del vuoto viene utilizzata per creare un vuoto nella camera del forno, che aiuta a rimuovere le impurità e a migliorare la qualità del film depositato.
Vantaggi
- Osservazione intuitiva del campione e raffreddamento rapido: La camera del forno divisa consente l'osservazione diretta dei campioni di reazione e il raffreddamento rapido.
- Capacità di lavorare ad alta temperatura: Temperatura massima di lavoro fino a 1200℃ per applicazioni versatili.
- Controllo preciso del gas: il misuratore di portata massica MFC a 4 canali con sorgenti CH4, H2, O2 e N2 garantisce un'alimentazione accurata e stabile del gas.
- Compatibilità con il vuoto: La stazione del vuoto con una pompa per vuoto rotativa a palette da 4L/S raggiunge una pressione massima di 10Pa, consentendo vari processi sotto vuoto.
- Riscaldamento e raffreddamento ad alta velocità: Il sistema di scorrimento della camera del forno facilita il riscaldamento e il raffreddamento rapido per un'efficiente elaborazione dei campioni.
- Controllo avanzato della temperatura: Controllo della temperatura programmabile PID con eccellente precisione, controllo remoto e capacità di controllo centralizzato.
- Interfaccia facile da usare: Il controller CTF Pro con touch screen TFT da 7 pollici offre un'impostazione intuitiva dei programmi e l'analisi dei dati.
- Configurazione versatile del vuoto: La flangia per vuoto in acciaio inox con porte adattabili consente di alloggiare diverse stazioni di pompe per vuoto per ambienti personalizzati.
- Efficienza energetica: Il sistema di raffreddamento ad acqua e il design del post-flusso del gas riducono al minimo il consumo energetico.
- Ampia applicabilità: Adatto per CVD, diffusione e altri trattamenti termici in condizioni di vuoto e protezione atmosferica.
Vantaggi per la sicurezza
- Il forno tubolare Kindle Tech possiede una protezione da sovracorrente e una funzione di allarme da sovratemperatura; il forno spegnerà automaticamente l'alimentazione.
- Il forno è dotato di una funzione di rilevamento delle coppie termiche, che interrompe il riscaldamento e attiva l'allarme una volta rilevata la rottura o il guasto.
- KT-CTF12 Pro supporta la funzione di riavvio dell'interruzione di corrente, la fornace riprenderà il programma di riscaldamento della fornace quando il potere è in arrivo dopo il fallimento
Specifiche tecniche
| Modello di forno | KT-CTF12-60 |
|---|---|
| Temperatura massima | 1200℃ |
| Temperatura di lavoro costante | 1100℃ |
| Materiale del tubo del forno | Quarzo di elevata purezza |
| Diametro del tubo del forno | 60 mm |
| Lunghezza della zona di riscaldamento | 1x450mm |
| Materiale della camera | Fibra di allumina giapponese |
| Elemento di riscaldamento | Bobina di filo Cr2Al2Mo2 |
| Velocità di riscaldamento | 0-20℃/min |
| Coppia termica | Costruire in tipo K |
| Regolatore di temperatura | Controllore PID digitale/controllore PID touch screen |
| Precisione del controllo della temperatura | ±1℃ |
| Distanza di scorrimento | 600 mm |
| Unità di controllo preciso del gas | |
| Misuratore di portata | Misuratore di portata massica MFC |
| Canali gas | 4 canali |
| Portata |
MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0-100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linearità | ±0,5% F.S. |
| Ripetibilità | ±0,2% F.S. |
| Linea di tubi e valvola | Acciaio inossidabile |
| Pressione massima di esercizio | 0,45MPa |
| Controllore del flussometro | Controllore digitale a manopola/controller touch screen |
| Unità di vuoto standard (opzionale) | |
| Pompa per vuoto | Pompa per vuoto rotativa a palette |
| Portata della pompa | 4L/S |
| Porta di aspirazione del vuoto | KF25 |
| Vacuometro | Vacuometro Pirani/Resistenza al silicone |
| Pressione nominale del vuoto | 10Pa |
| Unità per alto vuoto (opzionale) | |
| Pompa per vuoto | Pompa rotativa a palette+pompa molecolare |
| Portata della pompa | 4L/S+110L/S |
| Porta di aspirazione del vuoto | KF25 |
| Vacuometro | Vacuometro composto |
| Pressione nominale del vuoto | 6x10-5Pa |
| Le specifiche e le configurazioni di cui sopra possono essere personalizzate | |
Pacchetto standard
| No. | Descrizione | Quantità |
|---|---|---|
| 1 | Fornace | 1 |
| 2 | Tubo di quarzo | 1 |
| 3 | Flangia per il vuoto | 2 |
| 4 | Blocco termico del tubo | 2 |
| 5 | Gancio del blocco termico a tubo | 1 |
| 6 | Guanto resistente al calore | 1 |
| 7 | Controllo preciso del gas | 1 |
| 8 | Unità per il vuoto | 1 |
| 9 | Manuale operativo | 1 |
Configurazione opzionale
- Rilevamento e monitoraggio dei gas in tubo, come H2, O2 e così via
- Monitoraggio e registrazione indipendente della temperatura del forno
- Porta di comunicazione RS 485 per il controllo remoto del PC e l'esportazione dei dati
- Controllo della portata di alimentazione dei gas inseriti, come flussimetro di massa e flussimetro a galleggiante
- Controllore di temperatura touch screen con funzioni versatili e di facile utilizzo per l'operatore
- Configurazione della stazione di pompaggio ad alto vuoto, come la pompa a vuoto a palette, la pompa molecolare e la pompa a diffusione.
Per richieste di personalizzazione o per saperne di più su come KINTEK può supportare le vostre specifiche esigenze di ricerca, vi invitiamo a compilare il nostro modulo di contatto o contattate il nostro team di esperti.
Fidato dai Leader del Settore
FAQ
Cos'è E Come Funziona Un Forno A Tubi?
Quali Sono Le Principali Applicazioni Dei Forni Tubolari Multizona?
Qual è Il Principio Di Una Macchina MPCVD?
A Cosa Serve Una Macchina PECVD?
Quali Sono Le Principali Applicazioni Di Un Forno A Vuoto?
Che Cos'è Un Forno A Tubi Verticale?
A Cosa Serve Un Forno Ad Atmosfera?
Che Cos'è Un Forno A Induzione Sotto Vuoto?
Qual è Il Principio Di Una Macchina CVD?
Quali Sono Le Principali Applicazioni Dei Forni A Tubi?
Quali Sono Le Caratteristiche Principali Dei Forni Tubolari Multizona?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Una Macchina MPCVD?
Quali Sono I Principali Tipi Di Macchine PECVD?
Quali Sono Le Caratteristiche Principali Di Un Forno A Vuoto?
Quali Sono Le Applicazioni Di Un Forno A Tubi Verticali?
Quali Sono Le Caratteristiche Principali Di Un Forno Ad Atmosfera?
Quali Sono Le Principali Applicazioni Dei Forni A Induzione Sottovuoto?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Una Macchina CVD?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno A Tubi?
Come Funziona Un Forno Tubolare Multizona?
Quali Sono Le Applicazioni Principali Delle Macchine MPCVD?
Come Funziona Una Macchina PECVD?
Come Funziona Un Forno A Vuoto?
Quali Sono I Vantaggi Di Un Forno Tubolare Verticale?
Come Funziona Un Forno Ad Atmosfera?
Come Funziona Un Forno A Induzione Sottovuoto?
Quali Sono Le Applicazioni Di Una Macchina CVD?
Quali Tipi Di Forni Tubolari Sono Disponibili?
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Un Forno A Tubi Multizona?
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Perché Il Controllo Della Temperatura è Importante Nei Forni A Induzione Sotto Vuoto?
Cosa Rende Speciali I Forni Tubolari KINTEK?
Perché La PECVD è Preferita Ad Altri Metodi Di Deposizione?
I Forni A Vuoto Possono Essere Personalizzati Per Applicazioni Specifiche?
Quali Intervalli Di Temperatura Possono Raggiungere I Forni A Tubi Verticali?
Quali Materiali Possono Essere Lavorati In Un Forno A Induzione Sotto Vuoto?
I Forni A Tubi Verticali Sono Personalizzabili?
In Che Modo L'ambiente Sottovuoto Favorisce La Lavorazione Dei Materiali?
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