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Sistema di macchine MPCVD Reattore a campana con risonatore per laboratorio e crescita del diamante

MPCVD

Sistema di macchine MPCVD Reattore a campana con risonatore per laboratorio e crescita del diamante

Numero articolo : KTMP315

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Potenza delle microonde
1~10 kW
Area di crescita del substrato
3 pollici
Carico massimo del lotto
45 pezzi di diamante
ISO & CE icon

Spedizione:

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Preventivo

Elevate la vostra sintesi di diamanti con KINTEK

Grazie a un'eccezionale attività di ricerca e sviluppo e alla produzione interna, KINTEK offre sistemi all'avanguardia per la deposizione chimica di vapore al plasma a microonde (MPCVD). Le nostre macchine sono meticolosamente progettate per garantire affidabilità, efficienza e una produzione costante di diamanti di elevata purezza e qualità, per soddisfare le diverse esigenze di laboratorio e industriali.

Perché i sistemi MPCVD di KINTEK sono la vostra scelta principale

In KINTEK siamo impegnati a far progredire la tecnologia di sintesi del diamante. I nostri sistemi MPCVD offrono una combinazione irresistibile di prestazioni, innovazione e assistenza:

  • Affidabilità e prestazioni senza pari: Con una stabilità operativa documentata che supera le 40.000 ore, le nostre apparecchiature MPCVD stabiliscono lo standard del settore per affidabilità, ripetibilità e convenienza. Potete fidarvi dei sistemi KINTEK per ottenere risultati costanti, prova dopo prova.
  • Tecnologia avanzata: Reinvestiamo continuamente in ricerca e sviluppo, implementando numerosi aggiornamenti e miglioramenti. Questo impegno si traduce in sistemi MPCVD con un'efficienza significativamente migliorata e costi operativi ridotti per i nostri clienti.
  • Vantaggi chiave del sistema:
    • Ampia area di crescita: Dispone di un'area di crescita del substrato di 3 pollici, in grado di ospitare un carico massimo di 45 pezzi di diamante.
    • Efficienza energetica: Dotato di una potenza di uscita a microonde regolabile da 1 a 10 kW, riduce al minimo il consumo di elettricità senza compromettere le prestazioni.
    • Trasferimento di conoscenze specialistiche: Beneficia del supporto del nostro team di ricerca, ricco di esperienza, e dell'accesso a ricette di avanguardia per la coltivazione dei diamanti.
    • Assistenza completa per tutti gli utenti: Offriamo un esclusivo programma di assistenza tecnica che consente anche ai team che non hanno alcuna esperienza di coltivazione di diamanti di raggiungere il successo.

Vetrina visiva: Il vantaggio di KINTEK MPCVD in azione

Scoprite i notevoli risultati e la precisione della nostra tecnologia MPCVD:

Nuovo modello di macchina per diamanti MPCVD
Nuovo modello di macchina per diamanti KINTEK MPCVD
Diamante grezzo coltivato con la macchina MPCVD di KINTEK
Diamante grezzo coltivato con la macchina KINTEK MPCVD
Nella macchina MPCVD di KinTek, i diamanti crescono
Nella macchina MPCVD di KinTek, i diamanti crescono
Diamanti cresciuti con MPCVD dopo la lucidatura
Diamanti cresciuti con MPCVD dopo la lucidatura
Policristallino da KinTek MPCVD
Diamante policristallino coltivato da KinTek MPCVD

Conoscere la tecnologia MPCVD

L'MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) è una tecnica avanzata per sintetizzare film e cristalli singoli di diamante di alta qualità. Comporta la creazione di un plasma generato da microonde a partire da gas contenenti carbonio (come il metano, CH4) mescolati con altri gas (come H2, Ar, O2, N2) all'interno di una camera a vuoto. Questo plasma facilita la deposizione precisa di atomi di carbonio su un substrato, consentendo la crescita controllata di materiale diamantato.

Vantaggi generali del metodo MPCVD:

Rispetto ad altre tecniche di sintesi come l'alta pressione e l'alta temperatura (HPHT), l'MPCVD offre diversi vantaggi chiave:

  • Diamanti di maggiore purezza: Il plasma senza contatto e l'ambiente controllato riducono al minimo la contaminazione.
  • Minor consumo di energia: Generalmente più efficiente dal punto di vista energetico rispetto all'HPHT.
  • Potenziale per diamanti più grandi: Ideale per la crescita di diamanti a cristallo singolo di grandi dimensioni e di film estesi.
  • Controllo versatile del gas: Consente l'uso di più gas, offrendo flessibilità nella regolazione delle proprietà del diamante.
  • Lavorazione stabile: Offre una regolazione fluida della potenza delle microonde e un controllo stabile della temperatura, fondamentali per garantire una qualità costante ed evitare problemi come la perdita di cristalli di seme.

Queste caratteristiche rendono l'MPCVD un metodo promettente e ampiamente adottato per le applicazioni industriali e la ricerca avanzata, in particolare quando l'alta qualità e la crescita controllata sono fondamentali.

Applicazioni diverse, sbloccate da KINTEK MPCVD

I sistemi MPCVD di KINTEK sono progettati per soddisfare le esigenze di varie applicazioni all'avanguardia, sfruttando le proprietà uniche del diamante come l'eccezionale durezza, l'elevata rigidità, la conducibilità termica superiore, la bassa espansione termica, la durezza alle radiazioni e l'inerzia chimica:

  • Gemme coltivate in laboratorio: Produzione di diamanti di grandi dimensioni e di alta qualità per il mercato della gioielleria a costi competitivi, offrendo un'alternativa etica e sostenibile.
  • Industria dei semiconduttori: Consentire la crescita di substrati di diamante di grande superficie e di elevata purezza, fondamentali per l'elettronica di potenza di prossima generazione, l'informatica quantistica e i sensori avanzati.
  • Componenti ottici: Creazione di pellicole e finestre di diamante con trasmissione ottica, stabilità termica e durata superiori per laser e altri sistemi ottici.
  • Strumenti industriali: Produzione di utensili da taglio, perforazione e rettifica con rivestimento diamantato altamente durevole per la lavorazione di materiali duri e abrasivi.
  • Ricerca e sviluppo: Fornire una piattaforma versatile e affidabile per i ricercatori accademici e industriali che esplorano nuovi materiali diamantati, tecniche di drogaggio e applicazioni.

La nostra tecnologia MPCVD offre un vantaggio significativo rispetto ai metodi HPHT tradizionali, soprattutto per le applicazioni che richiedono diamanti di grandi dimensioni e di elevata purezza. Ciò posiziona i sistemi KINTEK come soluzione ideale per i mercati dei semiconduttori, dell'ottica e della gioielleria moderna, stimolando l'innovazione e consentendo nuove possibilità.

Approfondimento: Progettazione e funzionamento del sistema MPCVD KINTEK

Come funzionano i nostri sistemi MPCVD (processo di lavoro)

La macchina MPCVD KINTEK controlla meticolosamente il flusso di ciascun percorso di gas (gas reagenti come CH4, H2, Ar, O2, N2, ecc.) e la pressione della cavità. I gas vengono introdotti nella cavità a pressioni specifiche, definite dalla ricetta. Dopo aver stabilizzato il flusso d'aria, un generatore di microonde a stato solido da 6KW (o altra potenza specificata) produce microonde, che vengono poi guidate nella cavità attraverso una guida d'onda.

All'interno del campo di microonde, il gas di reazione si trasforma in uno stato di plasma, formando una sfera di plasma stabile che si libra esattamente sopra il substrato di diamante. L'intenso calore del plasma porta il substrato alla temperatura di crescita ottimale. Il calore in eccesso generato all'interno della cavità viene dissipato efficacemente da un'unità di raffreddamento ad acqua integrata.

Per garantire condizioni di crescita ottimali durante il processo di crescita del diamante monocristallino MPCVD, gli operatori possono regolare con precisione fattori quali la potenza delle microonde, la composizione della sorgente di gas e la pressione della cavità. Un vantaggio fondamentale è che la sfera di plasma non entra in contatto con la parete della cavità, garantendo che il processo di crescita del diamante sia privo di impurità e migliorando così in modo significativo la qualità e la purezza del diamante.

Componenti e dettagli del sistema

Componente del sistema a microonde di KINTEK MPCVD

Sistema a microonde

Camera di reazione di KINTEK MPCVD

Camera di reazione

Sistema di flusso di gas per KINTEK MPCVD

Sistema di flusso del gas

Sistema di vuoto e sensori in KINTEK MPCVD

Sistema di vuoto e sensori

Simulazione del plasma di KinTek MPCVD
Simulazione del plasma MPCVD KinTek per una crescita ottimizzata

Specifiche tecniche complete

Sistema a microonde
  • Frequenza microonde 2450±15MHZ,
  • Potenza di uscita 1~10 KW regolabile in continuo
  • Stabilità della potenza di uscita a microonde: <±1%
  • Perdita di microonde ≤2MW/cm2
  • Interfaccia guida d'onda in uscita: WR340, 430 con flangia standard FD-340, 430
  • Flusso d'acqua di raffreddamento: 6-12L/min
  • Coefficiente d'onda stazionaria del sistema: VSWR ≤ 1,5
  • Regolatore manuale a microonde a 3 pin, cavità di eccitazione, carico ad alta potenza
  • Alimentazione in ingresso: 380VAC/50Hz ± 10%, trifase
Camera di reazione
  • Tasso di perdita di vuoto<5 × 10-9 Pa .m3/s
  • La pressione limite è inferiore a 0,7 Pa (configurazione standard con vacuometro Pirani)
  • L'aumento di pressione della camera non deve superare i 50 Pa dopo 12 ore di mantenimento della pressione.
  • Modalità di lavoro della camera di reazione: Modalità TM021 o TM023
  • Tipo di cavità: Cavità risonante a farfalla, con potenza massima di 10KW, in acciaio inox 304, con interstrato raffreddato ad acqua e metodo di tenuta della piastra di quarzo ad alta purezza.
  • Modalità di aspirazione dell'aria: Presa d'aria uniforme anulare superiore
  • Tenuta del vuoto: La connessione inferiore della camera principale e la porta di iniezione sono sigillate con anelli di gomma, la pompa del vuoto e il soffietto sono sigillati con KF, la piastra di quarzo è sigillata con un anello a C in metallo e il resto è sigillato con CF.
  • Finestra di osservazione e misurazione della temperatura: 4 porte di osservazione
  • Porta di carico del campione nella parte anteriore della camera
  • Scarico stabile nell'intervallo di pressione di 0,7KPa~30KPa (la pressione di alimentazione deve essere adeguata)
Supporto del campione
  • Diametro del tavolo portacampioni≥70 mm, area di utilizzo effettiva≥64 mm
  • Struttura a sandwich raffreddata ad acqua della piattaforma della piastra di base
  • Il supporto del campione può essere sollevato e abbassato in modo uniforme elettricamente nella cavità
Sistema di flusso del gas
  • Disco d'aria per la saldatura di tutti i metalli
  • Per tutti i circuiti interni del gas dell'apparecchiatura devono essere utilizzati giunti a saldare o VCR.
  • Misuratore di flusso MFC a 5 canali, H2/CH4/O2/N/Ar. H2: 1000 sccm ;CH4:100 sccm; O2: 2 sccm; N2: 2 sccm; Ar: 10 sccm
  • Pressione di lavoro 0,05-0,3MPa, precisione ±2%.
  • Controllo indipendente della valvola pneumatica per ogni misuratore di portata del canale
Sistema di raffreddamento
  • 3 linee di raffreddamento ad acqua, monitoraggio in tempo reale della temperatura e del flusso.
  • Il flusso d'acqua di raffreddamento del sistema è ≤ 50L/min.
  • La pressione dell'acqua di raffreddamento è<4KG e la temperatura dell'acqua in ingresso è di 20-25 ℃.
Sensore di temperatura
  • Il termometro esterno a infrarossi ha un intervallo di temperatura di 300-1400 ℃.
  • Precisione del controllo della temperatura < 2 ℃ o 2%
Sistema di controllo
  • Viene adottato il PLC Siemens smart 200 e il controllo touch screen.
  • Il sistema dispone di una varietà di programmi, in grado di realizzare il bilanciamento automatico della temperatura di crescita, il controllo accurato della pressione dell'aria di crescita, l'aumento automatico della temperatura, la diminuzione automatica della temperatura e altre funzioni.
  • Il funzionamento stabile dell'apparecchiatura e la protezione completa dell'apparecchiatura possono essere raggiunti attraverso il monitoraggio del flusso d'acqua, della temperatura, della pressione e di altri parametri, mentre l'affidabilità e la sicurezza del funzionamento possono essere garantite attraverso l'interblocco funzionale.
Funzione opzionale
  • Sistema di monitoraggio del centro
  • Potenza di base del substrato

Collaborate con KINTEK per le vostre esigenze di materiali avanzati

KINTEK è un leader riconosciuto nella fornitura di soluzioni avanzate per forni ad alta temperatura, supportate da eccezionali capacità di ricerca e sviluppo e da una produzione interna dedicata. La nostra vasta gamma di prodotti, che comprende forni a muffola, forni tubolari, forni rotativi, forni sottovuoto e in atmosfera e sistemi specializzati CVD/PECVD/MPCVD, testimonia la nostra vasta esperienza nel trattamento termico e nella scienza dei materiali. Siamo orgogliosi della nostra profonda capacità di personalizzazione, che ci consente di soddisfare con precisione i vostri requisiti unici di produzione sperimentale o industriale.

Siete pronti a rivoluzionare la vostra produzione o ricerca sul diamante?

Scoprite come i sistemi MPCVD avanzati di KINTEK possono elevare le vostre capacità. Che si tratti di produzione di pietre preziose, materiali semiconduttori, componenti ottici o ricerca pionieristica, il nostro team di esperti è qui per aiutarvi a trovare la soluzione perfetta. Offriamo consulenze personalizzate, specifiche dettagliate e sistemi su misura per le vostre esigenze.

Contattateci oggi stesso per discutere del vostro progetto, richiedere un preventivo o saperne di più su come KINTEK può favorire il vostro successo nella sintesi del diamante!

FAQ

Qual è Il Principio Di Una Macchina MPCVD?

Una macchina MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) funziona utilizzando un generatore di microonde per produrre plasma ionizzando una miscela di gas. Questo plasma è alloggiato in una camera di reazione a bassa pressione, dove il substrato è tenuto in posizione da un supporto. I componenti principali sono il generatore di microonde, la camera del plasma, il sistema di erogazione del gas, il supporto del substrato e il sistema di vuoto.

Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Una Macchina MPCVD?

Le macchine MPCVD offrono diversi vantaggi: eliminano la contaminazione da fili caldi (scarica non polare), consentono l'uso di più gas, forniscono un controllo stabile della temperatura di reazione, permettono di ottenere una scarica di plasma stabile su grandi superfici e offrono un controllo preciso dello spessore del film, della purezza e della qualità del cristallo. Inoltre, producono film di diamante ad ampia superficie, garantiscono condizioni stabili, mantengono costante la qualità del campione e sono economicamente vantaggiosi.

Quali Sono Le Applicazioni Principali Delle Macchine MPCVD?

Le macchine MPCVD sono utilizzate principalmente per la sintesi di diamante di elevata purezza coltivato in laboratorio, compresi i film di diamante e altri materiali avanzati. Le loro applicazioni si estendono alla ricerca sui semiconduttori, all'ottica e ai MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems) grazie alla capacità di produrre film omogenei di alta qualità con un controllo preciso.

Quali Sono I Componenti Principali Di Una Macchina MPCVD?

I componenti principali di una macchina MPCVD comprendono un generatore di microonde (per produrre il plasma), una camera di reazione (per ospitare il substrato e la miscela di gas a bassa pressione), un supporto per il substrato (per tenere il substrato durante la deposizione), un sistema di erogazione del gas (per introdurre e controllare la miscela di gas) e un sistema di vuoto (per mantenere il necessario ambiente a bassa pressione).

Come Fa Una Macchina MPCVD A Migliorare L'efficienza Energetica?

Una macchina MPCVD migliora l'efficienza energetica grazie al processo senza elettrodi, che riduce la contaminazione e la perdita di energia. La generazione di plasma a microonde è altamente efficiente e il design modulare e scalabile del sistema consente di ottimizzare l'uso dell'energia in diverse applicazioni industriali.

Perché L'MPCVD è Preferito Per La Crescita Del Diamante?

L'MPCVD è preferito per la crescita del diamante perché fornisce un'alta densità di particelle cariche e di specie reattive, consente la deposizione di film di diamante di grande superficie a pressioni più basse e garantisce una migliore omogeneità nei film cresciuti. Queste caratteristiche consentono di ottenere diamanti di elevata purezza e qualità, con un controllo preciso delle loro proprietà.
Visualizza altre domande frequenti per questo prodotto

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Incredible precision and speed! Our lab's diamond growth has never been more efficient. Worth every penny!

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